[发明专利]用于MR成像的可配置射频线圈的系统和方法在审

专利信息
申请号: 202010252827.7 申请日: 2020-04-01
公开(公告)号: CN111796228A 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 弗雷泽·约翰·莱恩·罗伯;罗伯特·史蒂文·斯托蒙特;维克托·塔拉西拉;丹·肯里克·斯宾塞 申请(专利权)人: 通用电气精准医疗有限责任公司
主分类号: G01R33/385 分类号: G01R33/385;G01R33/36;A61B5/055
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖;钱慰民
地址: 美国威*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 mr 成像 配置 射频 线圈 系统 方法
【说明书】:

发明题为“用于MR成像的可配置射频线圈的系统和方法”。本发明提供了用于磁共振成像(MRI)的各种系统。在一个示例中,一种方法包括选择用于操作可配置射频(RF)线圈组件的轮廓拓扑,其中该可配置RF线圈组件包括经由多个开关耦接的导电区段的阵列,并且轮廓拓扑限定在可配置RF线圈组件上形成的一个或多个RF线圈元件的配置。方法还包括:在接收模式期间,根据所选择的轮廓拓扑至少部分地激活多个开关的一个或多个开关子集以形成一个或多个RF线圈元件。

技术领域

本文所公开的主题的实施方案涉及磁共振成像(MRI),并且更具体地讲,涉及MRI射频(RF)线圈。

背景技术

磁共振成像(MRI)是可以在不使用X射线或其他电离辐射的情况下创建人体内部的图像的医学成像模态。MRI系统包括超导磁体以产生强而均匀的静磁场B0。当成像对象被放置在磁场B0中时,与成像对象中的氢核相关联的核自旋变得极化,使得与这些自旋相关联的磁矩优先沿磁场B0的方向对准,从而导致沿该轴的小的净磁化。氢核由处于或接近氢核的共振频率的射频信号激发,这为核自旋系统增加了能量。当核自旋弛豫回到其静止能量状态时,其以RF信号的形式释放吸收的能量。该RF信号(或MR信号)由一个或多个RF线圈组件检测并且使用重建算法来变换成图像。

不同的MR成像协议可以取决于成像协议的目标、成像对象的方面等优先考虑不同的成像参数。例如,一些成像协议可以优先于快速成像而考虑进入成像对象的成像穿透,而其他成像协议可以优先考虑低信噪比。这些不同的成像参数可能被RF线圈组件的配置影响。通常,RF线圈组件包括多个单独RF线圈元件,这些RF线圈元件相对于其上安装有RF线圈元件的基板基本上固定就位,并且因此可以具有固定配置(例如,固定RF线圈几何形状、固定数量的RF线圈元件等)。因为典型RF线圈组件无法轻松调整,所以可能难以通过单个RF线圈组件实现所有期望的成像参数。

发明内容

在一个实施方案中,一种用于磁共振成像(MRI)的方法包括:选择用于操作可配置射频(RF)线圈组件的轮廓拓扑,其中可配置RF线圈组件包括经由多个开关耦接的导电区段的阵列,并且轮廓拓扑限定在可配置RF线圈组件上形成的一个或多个RF线圈元件的配置;以及在接收模式期间,根据所选择的轮廓拓扑至少部分地激活多个开关的一个或多个开关子集以形成一个或多个RF线圈元件。

应当理解,提供上面的简要描述来以简化的形式介绍在具体实施方式中进一步描述的精选概念。这并不意味着识别所要求保护的主题的关键或必要特征,该主题的范围由具体实施方式后的权利要求书唯一地限定。此外,所要求保护的主题不限于解决上文或本公开的任何部分中提到的任何缺点的实施方式。

附图说明

通过参考附图阅读以下对非限制性实施方案的描述将更好地理解本公开,其中以下:

图1是根据一个示例性实施方案的MRI系统的框图。

图2示意性地示出了根据一个示例性实施方案的RF线圈区段的示例零级阵列。

图3示意性地示出了包括图2的RF线圈区段的阵列和多个开关的示例可配置RF线圈组件。

图4示出了处于第一开关配置的图3的可配置RF线圈组件。

图5A和图5B示出了处于不同开关状态的图3和图4的可配置RF线圈组件的两个开关的放大详细视图。

图6示意性地示出了根据一个示例性实施方案的RF线圈区段的示例一级阵列。

图7示意性地示出了包括图6的RF线圈区段的阵列和多个开关的示例可配置RF线圈组件。

图8A示出了处于第一开关配置的图7的可配置RF线圈组件。

图8B和图8C示出了处于不同开关状态的图7的可配置RF线圈组件的两个开关的放大详细视图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用电气精准医疗有限责任公司,未经通用电气精准医疗有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010252827.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top