[发明专利]一种基于双向旋转进行充分研磨的研磨装置在审
申请号: | 202010254374.1 | 申请日: | 2020-04-02 |
公开(公告)号: | CN111437933A | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | 黄小方;方襄豪;付清 | 申请(专利权)人: | 黄小方 |
主分类号: | B02C15/14 | 分类号: | B02C15/14;B02C23/00 |
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地址: | 471000 河南省洛阳市洛*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 双向 旋转 进行 充分 研磨 装置 | ||
1.一种基于双向旋转进行充分研磨的研磨装置,包括第一齿轮(1),其特征在于:所述第一齿轮(1)的外侧活动连接有第二齿轮(2),第二齿轮(2)的侧面活动连接有推杆(3),第二齿轮(2)的侧面活动连接有转轴(4),转轴(4)的上方固定连接有圆盘(5),圆盘(5)的上方活动连接有研磨盘(6),研磨盘(6)的侧面活动连接有,连接杆(7),连接杆(7)远离研磨盘(6)的一侧活动连接有横杆(8),圆盘(5)的上方活动连接有推块(9),推块(9)的背面活动连接有限位块(10),限位块(10)远离推块(9)的一侧活动连接有弯杆(11),推块(9)的背面固定连接有横板(12),圆盘(5)的下方固定连接有支撑块(13),第二齿轮(2)的外侧活动连接有皮带(14)。
2.根据权利要求1所述的一种基于双向旋转进行充分研磨的研磨装置,其特征在于:所述推块(9)设置有两个,两个推块(9)的规格一致,且以圆盘(5)的中心线为参照呈对称分布。
3.根据权利要求1所述的一种基于双向旋转进行充分研磨的研磨装置,其特征在于:所述研磨盘(6)设置有两个,两个研磨盘(6)的规格一致,且以转轴(4)的中心线为参照呈对称分布。
4.根据权利要求1所述的一种基于双向旋转进行充分研磨的研磨装置,其特征在于:所述横板(12)设置有两个,两个横板(12)的规格一致,且以转轴(4)的中心线为参照呈对称分布。
5.根据权利要求1所述的一种基于双向旋转进行充分研磨的研磨装置,其特征在于:所述第二齿轮(2)设置有两个,两个第二齿轮(2)的规格一致且以转轴(4)的中心线为参照呈对称分布。
6.根据权利要求1所述的一种基于双向旋转进行充分研磨的研磨装置,其特征在于:所述转轴(4)的表面开设有滑槽,且该滑槽设置为交叉状,滑槽的尺寸与推杆(3)的尺寸相互适配。
7.根据权利要求1所述的一种基于双向旋转进行充分研磨的研磨装置,其特征在于:所述推杆(3)设置有两个,两个推杆(3)的规格一致,且以转轴(4)的中心线为参照呈对称分布,但反向相反。
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