[发明专利]一种全电控二维光束扫描装置

权利要求书

1.一种全电控二维光束扫描装置，其特征在于，所述扫描装置包括激光器、一维波导相控阵、MEMS反射镜和控制芯片；所述激光器，用于发射激光光束；

所述一维波导相控阵用于由激光光束产生第一扫描光束并出射至所述MEMS反射镜，所述第一扫描光束的光矢量垂直于第一轴，所述第一扫描光束的光矢量绕所述第一轴偏转；

所述MEMS反射镜用于将所述第一扫描光束反射至自由空间；所述MEMS反射镜绕第二轴转动，所述第二轴垂直于所述MEMS反射镜的法线方向；

其中，所述第一轴与所述第二轴垂直，所述一维波导相控阵与所述MEMS反射镜均电连接于所述控制芯片，以控制从MEMS反射镜射出的第二扫描光束实现全空间二维扫描；

所述扫描装置还包括柱透镜，所述柱透镜位于所述一维波导相控阵和所述MEMS反射镜之间，所述第一扫描光束经所述柱透镜透射后，入射至所述MEMS反射镜；所述柱透镜用于光束整形，压缩所述第一扫描光束的发散角；

所述一维波导相控阵包括光耦合器、光分束器、光波导和光相移器；

所述光耦合器用于将激光耦合进所述光分束器；

所述光分束器用于将所述激光分束至光波导中；

所述光波导至少为两根，每根所述光波导电连接一个独立的光相移器，所述各光波导末端设置有光发射端面；

所述光相移器用于独立控制与其电连接的所述光波导中的激光的相位；

所述光波导非均匀排列，用以抑制远场边模。

2.根据权利要求1所述的全电控二维光束扫描装置，其特征在于，所述光发射端面上涂敷有增透膜。

3.根据权利要求1所述的全电控二维光束扫描装置，其特征在于，所述光耦合器的耦合方式为垂直耦合或端面耦合。

4.根据权利要求1所述的全电控二维光束扫描装置，其特征在于，所述光分束器是级联的多模干涉耦合器，或Y分支，或星型耦合器。