[发明专利]轴承机构和减速器在审
申请号: | 202010259567.6 | 申请日: | 2020-04-03 |
公开(公告)号: | CN111911523A | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 镰形州一 | 申请(专利权)人: | 纳博特斯克有限公司 |
主分类号: | F16C9/02 | 分类号: | F16C9/02;F16C33/46;F16C35/07;F16H57/021;F16H1/32 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 轴承 机构 减速器 | ||
1.一种轴承机构,其具备:
滚子轴承,其具有多个圆柱状的滚动体和保持多个所述滚动体的保持器;以及
限制构件,其与所述滚子轴承的所述滚动体接触,从而限制所述滚子轴承的轴向上的移动。
2.根据权利要求1所述的轴承机构,其中,
该轴承机构具备基座构件,该基座构件具有内周面,
多个所述滚动体配置于所述内周面。
3.根据权利要求2所述的轴承机构,其中,
所述滚动体形成为在所述内周面的轴向上延伸的圆柱状,并且,沿所述内周面的周向排列,
所述限制构件安装于所述内周面的在轴向上位于所述滚子轴承的旁边的部分,所述限制构件在轴向上与所述滚动体接触。
4.根据权利要求3所述的轴承机构,其中,
所述保持器具有:环状部,其沿着所述内周面配置;和檐部,其从所述环状部的轴向的两端沿着径向突出,在轴向上位于所述滚动体的两侧,
所述限制构件具有:主体部,其安装于所述内周面;和接触凸部,其从所述主体部的在轴向上与所述滚子轴承相对的相对面突出并与所述滚动体接触,
所述接触凸部的轴向上的突出长度比所述檐部的轴向上的厚度大。
5.根据权利要求3所述的轴承机构,其中,
所述保持器具有:环状部,其沿着所述内周面配置;和檐部,其从所述环状部的轴向的两端沿着径向突出,在轴向上位于所述滚动体的两侧,
所述限制构件具有从在轴向上朝向所述滚子轴承侧的端面凹陷而收容所述檐部的收容凹部。
6.根据权利要求3~5中任一项所述的轴承机构,其中,
所述保持器具有:环状部,其沿着所述内周面配置;和檐部,其从所述环状部的轴向的两端沿着径向突出,在轴向上位于所述滚动体的两侧,
所述檐部中的在轴向上配置于所述限制构件与所述滚动体之间的第一檐部的径向的长度比所述檐部中的第二檐部的径向的长度小,该第二檐部使所述滚动体在轴向上位于该第二檐部与所述第一檐部之间。
7.一种轴承机构,其具备:
基座构件,其具有内周面;
滚子轴承,其具有:多个滚动体,其形成为在所述内周面的轴向上延伸的圆柱状,并且,沿所述内周面的周向排列;以及保持器,其包括:环状部,其沿着所述内周面配置;和檐部,其从所述环状部的轴向的两端沿着径向突出,在轴向上位于所述滚动体的两侧,该保持器保持多个所述滚动体,所述保持器的所述檐部中的第一檐部的径向的长度比所述檐部中的第二檐部的径向的长度小,该第二檐部使所述滚动体在轴向上位于该第二檐部与所述第一檐部之间;以及
限制构件,其具有:主体部,其以所述第一檐部在轴向上位于该主体部与所述滚动体之间的方式安装于所述内周面的在轴向上位于所述滚子轴承的旁边的部分;和接触凸部,其从所述主体部的在轴向上与所述滚子轴承相对的相对面突出并与所述滚动体接触,该接触凸部的轴向上的突出长度比所述檐部的轴向上的厚度大,该限制构件与所述滚动体接触,从而限制所述滚子轴承的轴向上的移动。
8.一种减速器,其具备:
权利要求2~7中任一项所述的轴承机构;
旋转轴,其借助所述滚子轴承以能够旋转的方式支承于所述内周面;
外筒,所述基座构件配置为在该外筒的内侧能够与该外筒相对地旋转;以及
摆动齿轮,其配置于所述外筒的内侧,随着所述旋转轴的旋转而摆动旋转,
所述旋转轴是基于所述摆动齿轮的摆动旋转而使所述外筒和所述基座构件以比所述旋转轴的旋转速度慢的速度相对地旋转的曲轴。
9.一种轴承机构,其具备:
滚子轴承,其具有多个圆柱状的滚动体和保持多个所述滚动体的保持器;
限制构件,其与所述滚子轴承的所述滚动体接触,从而限制所述滚子轴承的轴向上的移动;以及
旋转轴,该旋转轴具有外周面,
多个所述滚动体配置于所述外周面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纳博特斯克有限公司,未经纳博特斯克有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010259567.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:信息处理装置和信息处理方法
- 下一篇:具有横向蜿蜒栅极的场效应晶体管