[发明专利]一种矿区排土场灌木栽植的装置及方法在审

专利信息
申请号: 202010259633.X 申请日: 2020-04-03
公开(公告)号: CN111328661A 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 韩凤朋;李永红;王坤;马炳召;甄庆;王钰;王晓霞;杨晶晶;陈闻;武杼华;张兴昌 申请(专利权)人: 西北农林科技大学
主分类号: A01G23/04 分类号: A01G23/04;A01G17/00;A01G24/20;A01G24/35;A01G24/46
代理公司: 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 代理人: 韩晶
地址: 712100 陕西省咸阳市*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 矿区 排土场 灌木 栽植 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种矿区排土场灌木栽植的装置,其特征在于:包括植苗穴(1),所述植苗穴(1)的穴内土壤自下而上依次设有:由下到上为:保水层(2)、营养层(3)、栽植层(4)、防蒸发层(5),所述植苗穴(1)周边设有鱼鳞坑(6),所述植苗穴(1)内设有灌木(7)。

2.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置,其特征在于:所述植苗穴(1)的深度为50cm,直径40cm。

3.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置,其特征在于:所述保水层(2)为水分饱和PAMN保水剂层,所述保水层(2)的厚度为5cm。

4.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置,其特征在于:所述营养层(3)为有机肥层,有机肥层厚度10cm。

5.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置,其特征在于:所述栽植层(4)的厚度为30cm。

6.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置,其特征在于:所述防蒸发层(5)的厚度为5cm,所述防蒸发层(5)中为粗砂,沙土平均粒径大于0.5mm。

7.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置,其特征在于:所述灌木(7)为沙棘、柠条、枸杞和长柄扁桃。

8.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置,其特征在于:所述灌木(7)的种植行距为1m,株距为1m。

9.一种权利要求1所述矿区排土场灌木栽植的方法,其特征在于:包括以下步骤:

步骤1、对植苗穴(1)挖掘:利用直径40cm的普通钻头打孔机进行植苗穴挖掘,矿区排土场植被恢复前的覆土要求厚度不得少于50cm,孔径40cm,深度50cm;最终回填排土场土壤30cm,其它多余20cm的土壤均匀置于植苗穴周边,起到鱼鳞坑(6)的作用;

步骤2、植苗穴(1)内土壤改良:在底层设置保水层(2),保水材料为PAMN保水剂,保水层的厚度为5cm;保水层上面为营养层(3);有机肥的要求为:烘干后有机质含量≥45%,总养分质量分数N+P2O5+K2O≥5%;营养层厚度为10cm;营养层上面为栽植层(4);栽植层为矿区排土场原有覆土,厚度为30cm,分两次回填,第一次回填10cm,踩实,栽苗的同时再回填20cm,踩实;最后,在上层覆盖防蒸发层(5),防蒸发层为粗砂,粗砂要求平均粒径>0.5mm,均匀铺设在植苗穴(1)上层,厚度为5cm;

步骤3、苗木种植处理:苗木为2年灌木苗,栽植前,在浓度1000ppm的生根粉溶液中进行蘸根处理,在铺设保水层、营养层和10cm栽植层的植苗穴(1)中,靠近南面垂直坑边放置,回填10cm排土场土壤后,提苗踩实,再填10cm土壤踩实;上面覆盖5cm的防蒸发层;栽植完成后分多次浇水,直到植苗穴(1)存水10分钟以上,使土壤水分达到饱和;后期不再进行水分和养分管理。

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