[发明专利]一种矿区排土场灌木栽植的装置及方法

权利要求书

1.一种矿区排土场灌木栽植的装置，其特征在于：包括植苗穴(1)，所述植苗穴(1)的穴内土壤自下而上依次设有：由下到上为：保水层(2)、营养层(3)、栽植层(4)、防蒸发层(5)，所述植苗穴(1)周边设有鱼鳞坑(6)，所述植苗穴(1)内设有灌木(7)。

2.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置，其特征在于：所述植苗穴(1)的深度为50cm，直径40cm。

3.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置，其特征在于：所述保水层(2)为水分饱和PAMN保水剂层，所述保水层(2)的厚度为5cm。

4.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置，其特征在于：所述营养层(3)为有机肥层，有机肥层厚度10cm。

5.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置，其特征在于：所述栽植层(4)的厚度为30cm。

6.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置，其特征在于：所述防蒸发层(5)的厚度为5cm，所述防蒸发层(5)中为粗砂，沙土平均粒径大于0.5mm。

7.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置，其特征在于：所述灌木(7)为沙棘、柠条、枸杞和长柄扁桃。

8.根据权利要求1所述的矿区排土场灌木栽植的装置，其特征在于：所述灌木(7)的种植行距为1m，株距为1m。

9.一种权利要求1所述矿区排土场灌木栽植的方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤1、对植苗穴(1)挖掘：利用直径40cm的普通钻头打孔机进行植苗穴挖掘，矿区排土场植被恢复前的覆土要求厚度不得少于50cm，孔径40cm，深度50cm；最终回填排土场土壤30cm，其它多余20cm的土壤均匀置于植苗穴周边，起到鱼鳞坑(6)的作用；

步骤2、植苗穴(1)内土壤改良：在底层设置保水层(2)，保水材料为PAMN保水剂，保水层的厚度为5cm；保水层上面为营养层(3)；有机肥的要求为：烘干后有机质含量≥45％，总养分质量分数N+P₂O₅+K₂O≥5％；营养层厚度为10cm；营养层上面为栽植层(4)；栽植层为矿区排土场原有覆土，厚度为30cm，分两次回填，第一次回填10cm，踩实，栽苗的同时再回填20cm，踩实；最后，在上层覆盖防蒸发层(5)，防蒸发层为粗砂，粗砂要求平均粒径＞0.5mm，均匀铺设在植苗穴(1)上层，厚度为5cm；

步骤3、苗木种植处理：苗木为2年灌木苗，栽植前，在浓度1000ppm的生根粉溶液中进行蘸根处理，在铺设保水层、营养层和10cm栽植层的植苗穴(1)中，靠近南面垂直坑边放置，回填10cm排土场土壤后，提苗踩实，再填10cm土壤踩实；上面覆盖5cm的防蒸发层；栽植完成后分多次浇水，直到植苗穴(1)存水10分钟以上，使土壤水分达到饱和；后期不再进行水分和养分管理。