[发明专利]基于深度学习的电磁超表面设计方法及装置在审

专利信息
申请号: 202010260816.3 申请日: 2020-04-03
公开(公告)号: CN111611683A 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 贾月恬;钱超;陈红胜 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06N3/04;G06N3/08;G06F111/10
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 付婧
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 基于 深度 学习 电磁 表面 设计 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种基于深度学习的电磁超表面设计方法,其特征在于,包括以下步骤:

构建深度学习模型M1、深度学习模型M2以及训练集;

输入所述训练集至深度学习模型M1进行训练,输入所述训练集至深度学习模型M2进行训练;

根据训练后的深度学习模型M1进行电磁超设计的正向预测得到电磁超表面结构/排列与对应光学响应的正向映射关系;根据训练后的深度学习模型M2进行电磁超设计的逆向预测得到电磁超表面结构/排列与对应光学响应的逆向映射关系。

2.根据权利要求1所述的基于深度学习的电磁超表面设计方法,其特征在于,所述训练集的元素包括入射波信息、电磁超表面结构/排列及其对应的光学响应。

3.根据权利要求2所述的基于深度学习的电磁超表面设计方法,其特征在于,所述光学响应为远场辐射方向图;所述入射波信息包含入射电磁波的频率、入射角度以及电磁波极化。

4.根据权利要求1所述的基于深度学习的电磁超表面设计方法,其特征在于,所述训练集的样本通过以下方式得到:

采用电磁仿真软件对不同电磁超表面结构/排列进行仿真,得到对应的光学响应结果;

将所述光学响应结果与所述电磁超表面结构/排列一一组合,得到所述深度学习模型的训练样本。

5.根据权利要求1所述的基于深度学习的电磁超表面设计方法,其特征在于,所述深度学习模型M1的输入为给定的电磁超表面结构/排列信息以及入射波信息,输出对应的光学响应;所述深度学习模型M2的输入为自定义的光学响应以及入射波信息,输出对应的电磁超表面结构/排列。

6.根据权利要求1所述的基于深度学习的电磁超表面设计方法,其特征在于,所述深度学习模型M1包含多个卷积神经网络层与反卷积神经网络层,具体的:

将电磁超表面结构/排列以及入射波信息量量化构成一个矩阵,作为所述深度学习模型M1的输入矩阵;

将光学响应量化构成另一个矩阵,作为所述深度学习模型M1的输出矩阵;

根据所述输入矩阵以及输出矩阵训练所述深度学习模型M1,得到所述电磁超表面结构/排列与对应光学响应的正向映射关系。

7.根据权利要求1所述的基于深度学习的电磁超表面设计方法,其特征在于,所述深度学习模型M2包含多个卷积神经网络层与反卷积神经网络层,具体的:

将光学响应以及入射波信息量化构成一个矩阵,作为所述深度学习模型M2的输入矩阵;

将电磁超表面结构/排列量化构成另一个矩阵,作为所述深度学习模型M2的输出矩阵;

根据所述输入矩阵以及输出矩阵训练所述深度学习模型M2,得到电磁超表面结构/排列与对应光学响应的逆向映射关系。

8.一种基于深度学习的电磁超表面设计装置,其特征在于,具体包括:

深度学习模型构建模块:用于构建深度学习模型M1、深度学习模型M2以及训练集;

深度学习模型训练模块:用于输入所述训练集至深度学习模型M1进行训练,用于输入所述训练集至深度学习模型M2进行训练;

电磁超表面设计模块:用于根据训练后的深度学习模型M1进行电磁超设计的正向预测得到电磁超表面结构/排列与对应光学响应的正向映射关系;根据训练后的深度学习模型M2进行电磁超设计的逆向预测得到电磁超表面结构/排列与对应光学响应的逆向映射关系。

9.一种电磁超表面,其特征在于,所述电磁超表面由电磁超单元拼接而成,所述电磁超单元包括上介质层、中间介质层以及下介质层,具体的:

所述上介质层固定在中间介质层的上表面,所述上介质层具有全极化功能的谐振结构;

所述中间介质层是非金属层;

所述下介质层是金属层,所述下介质层的上表面与所述中介质层的下表面紧贴且完全吻合。

10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,其上存储有计算机程序;所述计算机程序被处理器执行以实现如权利要求1-7任一项所述的基于深度学习的电磁超表面设计方法。

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