[发明专利]等离子处理真空腔体结构

说明书

本发明公开了一种等离子处理真空腔体结构，包括绝缘体、电极板、第一腔体和与所述第一腔体相配合的第二腔体，所述绝缘体设置于所述第一腔体内，所述电极板设置于所述绝缘体靠近第二腔体的一侧面上，所述第一腔体、第二腔体围成等离子处理空间。将等离子处理腔体结构设计为可拆分的第一腔体和第二腔体，第一腔体用于固定绝缘体和电极板等部件，第二腔体可用于运输待处理产品，搭配自动传送生产线等可实现自动上下料，提高产品处理效率。

技术领域

本发明涉及等离子处理技术领域，尤其涉及一种等离子处理真空腔体结构。

背景技术

现在市面上的真空式等离子处理设备，大都是独立于自动化体系的单独机台，等离子处理设备的腔体结构设计要求必须人工进行取料和放料，这大大影响了处理效率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种等离子处理真空腔体结构，无需人工进行取放料。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

一种等离子处理真空腔体结构，包括绝缘体、电极板、第一腔体和与所述第一腔体相配合的第二腔体，所述绝缘体设置于所述第一腔体内，所述电极板设置于所述绝缘体靠近第二腔体的一侧面上，所述第一腔体、第二腔体围成等离子处理空间。

进一步的，所述绝缘体靠近第二腔体的一侧面上设有与所述电极板相适配的第一凹陷位。

进一步的，还包括导电条，所述绝缘体靠近电极板的一侧面上设有与所述导电条相适配的第二凹陷位，所述导电条与所述电极板电性导通。

进一步的，所述绝缘体的材质为陶瓷，且所述绝缘体的厚度大于或等于20mm。

进一步的，所述第一腔体内设有进气管，所述进气管靠近所述第一腔体的内侧壁设置，所述进气管的形状为U形，所述进气管相对的两边上均设有进气孔，且相对的两边上的进气孔错位设置。

进一步的，还包括密封件，所述第一腔体靠近第二腔体的一侧面上设有凹槽，所述密封件设置于所述凹槽内。

进一步的，所述第一腔体上设有导电柱，所述第二腔体通过所述导电柱与所述第一腔体电性导通。

进一步的，所述第一腔体上设有视窗结构。

进一步的，所述第一腔体上设有法兰，所述法兰与所述等离子处理空间连通。

进一步的，所述第一腔体的内侧壁上还设有布气板，所述布气板与所述法兰对应设置，且所述布气板与法兰之间留有间隙。

本发明的有益效果在于：将等离子处理腔体结构设计为可拆分的第一腔体和第二腔体，第一腔体用于固定绝缘体和电极板等部件，第二腔体可用于运输待处理产品，搭配自动传送生产线等可实现自动上下料，提高产品处理效率；在电极板和第一腔体之间设置绝缘体可以杜绝电极的非正常功率产生，提高安全性能。

附图说明

图1为本发明实施例一的等离子处理真空腔体结构的整体结构示意图；

图2为本发明实施例一的等离子处理真空腔体结构的结构爆炸图；

图3为本发明实施例一的等离子处理真空腔体结构的另一结构爆炸图；

图4为本发明实施例一的等离子处理真空腔体结构的部分结构示意图；

图5为本发明实施例一的等离子处理真空腔体结构的另一部分结构示意图；

图6为本发明实施例一的等离子处理真空腔体结构中的进气管的进气示意图；

图7为本发明实施例一的等离子处理真空腔体结构的气流示意图。

标号说明：