[发明专利]光学系统、镜头模组和电子设备在审
申请号: | 202010263720.2 | 申请日: | 2020-04-03 |
公开(公告)号: | CN111323894A | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 党绪文;刘彬彬;李明;邹海荣 | 申请(专利权)人: | 南昌欧菲精密光学制品有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永强 |
地址: | 330096 江西省南昌市南昌*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学系统 镜头 模组 电子设备 | ||
本发明提供一种光学系统、镜头模组和电子设备。光学系统包括第一透镜;第二透镜;第三透镜;第四透镜;第五透镜,其物侧面与像侧面均为非球面,且物侧面与像侧面中至少一个面设置有至少一个反曲点;第六透镜,其物侧面与像侧面均为非球面,且物侧面与像侧面中至少一个面设置有至少一个反曲点。本申请通过合理配置各透镜的面型和屈折力,使得光学系统能够同时满足高像素、大光圈、良好像质、结构紧凑及有效降低内部杂散光等要求。
技术领域
本发明属于光学成像技术领域,尤其涉及一种光学系统、镜头模组和电子设备。
背景技术
智能手机、平板等电子产品制造技术不断发展,而作为图像数据采集重要基础部分之一的镜头,也在进行着多样化的发展,且近几年发展趋势逐渐转变为追求大光圈、高像素支持及良好的成像质量。
然而,在传统的镜头内,透镜间距较大,光圈数和像素支持难以满足市场需求,且透镜与机构易产生难以消除的杂散光,为光学取像镜头的生产带来极大困扰。
发明内容
本申请的目的在于提供一种光学系统、镜头模组和电子设备,用于解决上述技术问题。
为实现本申请的目的,本申请提供了如下的技术方案:
第一方面,本申请提供了一种光学系统,沿光轴方向的物侧至像侧依次包含:第一透镜,具有正屈折力,所述第一透镜物侧面为凸面;第二透镜,具有负屈折力,所述第二透镜像侧面近光轴处为凹面;第三透镜,具有屈折力,所述第三透镜物侧面近光轴处为凸面;第四透镜,具有屈折力,所述第四透镜的物侧面与像侧面均为非球面;第五透镜,具有正屈折力,所述第五透镜物侧面近圆周处为凹面,所述第五透镜的物侧面与像侧面均为非球面,且所述第五透镜的物侧面与像侧面中至少一个面设置有至少一个反曲点;第六透镜,具有负屈折力,所述第六透镜物侧面近光轴处为凸面,所述第六透镜像侧面近光轴处为凹面;所述第六透镜的物侧面与像侧面均为非球面,且所述第六透镜的物侧面与像侧面中至少一个面设置有至少一个反曲点。通过合理配置所述第一透镜至所述第六透镜的各透镜的面型和屈折力,使得本申请所述的光学系统能够在满足高像素、大光圈及良好像质的要求的同时,保持结构紧凑,有效降低内部杂散光的影响。
一种实施方式中,其特征在于,所述光学系统满足条件式:|SAG41|/|SAG42|<20.0;其中,SAG41为所述第四透镜物侧面最大有效口径处的矢高,SAG42为所述第四透镜像侧面最大有效口径处的矢高。其中,所述第四透镜矢高变化会引起面型适应性变化,从而更加适合像差的校正,当所述光学系统满足上述条件式时,所述第四透镜并未引入过大的面型倾角,这有利于透镜的加工成型。并能进一步提升所述光学系统的像差校正能力,增强解像力,以使对透镜的加工具有一定的友好性。
一种实施方式中,所述光学系统满足条件式:2.2<(CT2+CT3+CT4)/(CT23+CT34)≤8.5;其中,CT2为所述第二透镜在光轴上的厚度,CT3为所述第三透镜在光轴上的厚度,CT4为所述第四透镜在光轴上的厚度,CT23为所述第二透镜像侧面到所述第三透镜物侧面于光轴上的间隔距离,CT34为所述第三透镜像侧面到所述第四透镜物侧面于光轴上的间隔距离。当所述光学系统满足上述条件式时,合理的调和所述第二透镜、所述第三透镜和所述第四透镜与空气间隙的平均折射率,增大所述第二透镜、所述第三透镜和所述第四透镜的中厚与边厚,并压缩透镜间的空气间隙,能够在一定程度上提升透镜组的整体紧凑性,有利于减小光线在折射中的偏转角,从而降低公差敏感度。
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