[发明专利]柔性基板及其制作方法、显示面板有效
申请号: | 202010264674.8 | 申请日: | 2020-04-07 |
公开(公告)号: | CN111463359B | 公开(公告)日: | 2022-09-09 |
发明(设计)人: | 李林霜 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/56;H01L33/48;G02F1/1333;G09F9/30 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 徐世俊 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 柔性 及其 制作方法 显示 面板 | ||
1.一种柔性基板,其特征在于,所述柔性基板包括第一衬底、位于所述第一衬底上的第二衬底、及位于所述第二衬底上的第三衬底;
所述第一衬底的材料包括第一物质;
所述第二衬底的材料包括第二物质;
所述第三衬底的材料包括第三物质;
所述第一物质、所述第二物质、及所述第三物质的结构通式为
其中,所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第一物质中的N与(M+N)的比值,所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第三物质中的N与(M+N)的比值,R1和/或R2和/或R3中包括四元环、五元环、苯环、联苯环及奈环中的一种或多种,R4为烷基链,所述第一物质中的M与(M+N)的比值为75~95%,所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于80%,所述第三物质中的M与(M+N)的比值为75~95%。
2.根据权利要求1所述的柔性基板,其特征在于,R1和/或R2和/或R3中还包括氟取代基、甲苯及苯环中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的柔性基板,其特征在于,所述第一衬底、所述第二衬底、及所述第三衬底在300nm~320nm的光学透过率小于0.1%。
4.根据权利要求1所述的柔性基板,其特征在于,所述第一衬底的厚度大于所述第二衬底的厚度,所述第二衬底的膜厚大于所述第三衬底的厚度。
5.一种柔性基板的制作方法,其特征在于,包括:
在玻璃基板上形成第一膜层,将所述第一膜层经第一工艺形成第一预衬底;
在所述第一预衬底上形成第二膜层,将所述第二膜层经第二工艺形成第二预衬底;
在所述第二预衬底上形成第三膜层,将所述第三膜层经第三工艺形成第三预衬底;
将所述第一预衬底、第二预衬底、及第三预衬底经第四工艺形成第一衬底、第二衬底、及第三衬底;
利用激光将所述玻璃基板与所述第一衬底分离,以形成所述柔性基板;
其中,所述第一衬底的材料包括第一物质,所述第二衬底的材料包括第二物质,所述第三衬底的材料包括第三物质,所述第一物质、所述第二物质、及所述第三物质的结构通式为
所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第一物质中的N与(M+N)的比值,所述第二物质中的N与(M+N)的比值大于所述第三物质中的N与(M+N)的比值,R1和/或R2和/或R3中包括四元环、五元环、苯环、联苯环及奈环中的一种或多种,R4为烷基链,经过第四工艺后,所述第一物质中的亚胺化度大于或等于99%,所述第二物质的亚胺化度大于或等于99%,所述第三物质的亚胺化度大于或等于99%。
6.根据权利要求5所述的柔性基板的制作方法,其特征在于,所述第一膜层的材料包括第四物质,所述第二膜层的材料包括第五物质,所述第三膜层的材料包括第六物质,所述第四物质、所述第五物质、及所述第六物质的结构通式为
7.根据权利要求5所述的柔性基板的制作方法,其特征在于,
所述第一预衬底的材料包括第七物质,所述第二预衬底的材料包括第八物质,所述第三预衬底的材料包括第九物质;
经过所述第一工艺后,所述第七物质的亚胺化度小于30%;
经过所述第二工艺后,所述第八物质的亚胺化度小于30%;
经过所述第三工艺后,所述第九物质的亚胺化度小于30%。
8.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括如权利要求1~4中任意一项所述的柔性基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
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H01L51-54 .. 材料选择