[发明专利]一种含聚吡啶并咪唑的杂环聚合物的制备方法及其应用

权利要求书

1.一种含聚吡啶并咪唑的杂环聚合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1将反应物2,3,5,6-四氨基吡啶盐酸盐加入溶剂中，在温度为50℃～90℃通N₂，然后机械搅拌实现脱HCl；

S2加入二羧酸单体、还原剂及P₂O₅，搅拌后升温进行预聚合反应，然后加入溶剂再升至高温进行闭环反应；

S3闭环反应终止后，将聚合物放入蒸馏水中，中性后干燥，得到杂环聚合物。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述溶剂为多聚磷酸、NMP、DMSO、DMF、DMAc或甲磺酸中的一种。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述二羧酸单体为对苯二甲酸、邻苯二甲酸和4,4′-二苯醚二羧酸中的一种以上。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述闭环反应的温度为180-220℃，所述预聚合反应的温度为100-140℃。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，脱HCl的时间为0.5～4h，预聚合段的时间为8～16h，高温闭环段的时间为8～16h。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，2,3,5,6-四氨基吡啶盐酸盐与二羧酸单体的摩尔比为1：1，还原剂的量为2,3,5,6-四氨基吡啶盐酸盐的1％～4％，P₂O₅与二羧酸的质量相等。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S2中，加入溶剂前，聚合物的质量占整个体系质量的20％，加入溶剂后，聚合物的质量占整个体系质量的4％～20％。

8.一种含聚吡啶并咪唑的杂环聚合物的应用，其特征在于，由含聚吡啶并咪唑的杂环聚合物构成薄膜应用于燃料电池、导电膜基材、绝缘膜、气体分离及胶带领域。

9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，聚合物薄膜是将杂环聚合物经过溶剂蒸干法或相分离方法得到。