[发明专利]一种SiO2

权利要求书

1.一种SiO₂光子晶体结构色涂层的制备工艺，其特征在于，以正硅酸乙酯为硅源，无水乙醇为溶剂，以氯化钠为改性剂，在常温下反应，得到改性SiO₂悬浮液，配制低温釉料并施釉于陶瓷基底上，烘干之后浸入所述改性SiO₂悬浮液通过自组装沉积制备光子晶体，然后热处理得到SiO₂光子晶体结构色釉。

2.根据权利要求1所述SiO₂光子晶体结构色涂层的制备工艺，其特征在于，取无水乙醇等分为两份，一份加入正硅酸乙酯，配成正硅酸乙酯乙醇溶液，记为溶液A；另一份加入氨水及NaCl标准溶液并记为溶液B；将溶液B缓慢加入到溶液A中，搅拌反应获得稳定悬浮液并将得到的悬浮液离心清洗，得到改性SiO₂悬浮液。

3.根据权利要求2所述SiO₂光子晶体结构色涂层的制备工艺，其特征在于，所述无水乙醇的总用量为50mL，溶液A中正硅酸乙酯乙醇的浓度为8-12Vol％，溶液B中按氨水及NaCl标准溶液体积比为7:4加入共5-6ml氨水及NaCl标准溶液，所述搅拌反应的时间为20h～22h。

4.根据权利要求2所述SiO₂光子晶体结构色涂层的制备工艺，其特征在于，所述氨水的质量浓度为25％-28％。

5.根据权利要求1或2所述SiO₂光子晶体结构色涂层的制备工艺，其特征在于，所述低温釉料的制备方法如下：将三聚磷酸钠、羧甲基纤维素和硼酸玻璃熔块混料球磨，250～300目过筛并使筛余量小于0.5％后，加去离子水调制浆料并保持含水量为40～42％。

6.根据权利要求5所述SiO₂光子晶体结构色涂层的制备工艺，其特征在于，所述三聚磷酸钠、羧甲基纤维素和硼酸玻璃熔块的质量比为(0.3～0.5)：(1～2)：(98.0～98.5)，球：料：水的质量比为2：1：1，混料球磨5～7h。

7.根据权利要求1或2或5所述SiO₂光子晶体结构色涂层的制备工艺，其特征在于，所述陶瓷基底为Al₂O₃陶瓷片，将釉料通过丝网印刷均匀刷Al₂O₃陶瓷片上，在100℃～120℃下烘干，再把陶瓷片垂直浸在改性SiO₂微球悬浮液中，在40～60℃的烘箱内通过垂直沉积法自组装制备光子晶体，在600℃～800℃下对材料进行热处理，得到光子晶体结构色釉。

8.一种利用权利要求1所述SiO₂光子晶体结构色涂层制备工艺制备得到的SiO₂光子晶体结构色涂层。