[发明专利]一种新型蚀刻方法

权利要求书

1.一种新型蚀刻方法，其特征在于，包括以下步骤：

喷印，通过喷墨设备将指定内容喷印在转印材料上，墨水在转印材料上形成半固化的墨层；

转印，通过所述转印材料将所述墨层附着到指定位置，形成相应的抗腐蚀层；

腐蚀，对所述指定位置的区域进行腐蚀工艺。

2.根据权利要求1所述的新型蚀刻方法，其特征在于，还包括强化固化；所述墨层附着在所述指定位置后可选择进行强化固化；所述墨层的固化程度与附着力呈正比。

3.根据权利要求2所述的新型蚀刻方法，其特征在于，所述墨层的固化方式为光固化、热固化和光热混合固化中的一种。

4.根据权利要求1所述的新型蚀刻方法，其特征在于，还包括点阵转换；所述指定内容通过图文点阵化系统转换为所述喷墨设备能够识别的文件。

5.根据权利要求1所述的新型蚀刻方法，其特征在于，所述腐蚀工艺为化学腐蚀和电离腐蚀中的一种。

6.根据权利要求1所述的新型蚀刻方法，其特征在于，还包括表面处理，用于将所述墨层清除；所述表面处理采用化学浸泡和物理清洗中的一种。

7.根据权利要求6所述的新型蚀刻方法，其特征在于，所述化学浸泡采用碱液、热水、稀料中的一种或多种。

8.根据权利要求6所述的新型蚀刻方法，其特征在于，所述物理清洗采用抛丸清洗和喷砂清洗中的一种。