[发明专利]用于冲洗消融中的温度控制的系统和方法

权利要求书

1.一种导管消融系统，包括：

具有远侧端部的导管探头，所述导管探头包括：

温度传感器；

多个冲洗孔穴；以及

消融电极；

射频（RF）加热控制器，所述RF加热控制器耦合到所述导管探头并且被配置为向所述消融电极供应RF能量以控制所述消融电极以目标功率发出热量；

冲洗控制器，所述冲洗控制器耦合到所述导管探头并且被配置为以能够连续调节的冲洗流速通过所述导管探头供应冲洗流体以通过所述冲洗孔穴离开；以及

具有处理器和存储器的操作控制台，所述存储器存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器基于所述目标功率和目标平均温度来设定所述冲洗流速。

2.根据权利要求1所述的导管消融系统，其中所述操作控制台的所述存储器进一步存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器将所述冲洗流速设定为选自多于两种不同冲洗流速中的冲洗流速。

3.根据权利要求1所述的导管消融系统，其中所述操作控制台的所述存储器进一步存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器通过连续可变量来设定所述冲洗流速。

4.根据权利要求1所述的导管消融系统，其中所述操作控制台的所述存储器进一步存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器将所述冲洗流速设定为在连续范围内的值。

5.根据权利要求1所述的导管消融系统，其中所述操作控制台的所述存储器进一步存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器在预消融时间期间基于所述目标功率和所述目标平均温度将所述冲洗流速设定为初始冲洗流速。

6.根据权利要求5所述的导管消融系统，其中所述操作控制台的所述存储器进一步存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器在所述预消融时间之后的功率斜线上升时间段期间将所述冲洗流速设定为经调节的流速，基于以下项来设定所述经调节的流速：

所述目标功率；

所述目标平均温度；

所述初始冲洗流速；

由所述温度传感器测量的在所述预消融时间期间的温度斜率；

由所述温度传感器测量的在所述功率斜线上升时间期间的温度斜率；以及

由所述温度传感器测量的自消融开始以来测量的温度上升。

7.根据权利要求6所述的导管消融系统，其中所述操作控制台的所述存储器进一步存储指令，所述指令当由所述处理器执行时，使所述处理器控制所述冲洗控制器使用比例积分微分控制环路基于由所述温度传感器测量的当前温度和所述目标平均温度来设定所述冲洗流速。

8.根据权利要求6所述的导管消融系统，其中所述目标平均温度相对于所述目标功率是恒定的。

9.根据权利要求6所述的导管消融系统，其中将所述目标平均温度设定为相对于所述目标功率线性增加。

10.一种用于控制导管消融系统的方法，所述导管消融系统包括：

具有远侧端部的导管探头，所述导管探头包括：

温度传感器；

多个冲洗孔穴；以及

消融电极；

射频（RF）加热控制器，所述RF加热控制器耦合到所述导管探头并且被配置为向所述消融电极供应RF能量以控制所述消融电极以目标功率发出热量；以及

冲洗控制器，所述冲洗控制器耦合到所述导管探头，并且被配置为以能够连续调节的冲洗流速通过所述导管探头供应冲洗流体以通过所述冲洗孔穴离开，

所述方法包括：

由操作控制台接收所述目标功率和目标平均温度，所述操作控制台被配置为接收来自所述温度传感器的信号并且控制所述RF加热控制器和所述冲洗控制器；以及

由所述操作控制台控制所述冲洗控制器基于所述目标功率和所述目标平均温度设定所述冲洗流速。