[发明专利]邻氨基苯甲酸衍生物及其用途

说明书

本发明涉及化妆品及药物的技术领域，特别涉及一类邻氨基苯甲酸衍生物的化合物及其用途。本发明通过制备具有抗炎功能的系列化合物，使得到的抗炎化合物可以用于制备化妆品试剂或药物试剂，本发明中的化妆品试剂和药物试剂没有特定限制。例如可以是柔肤化妆水、营养化妆水、按摩霜、润肤乳、凝胶、营养霜、面膜、啫喱类或沐浴露洗发水等洗去类型的化妆品，也可以是以类似乳霜、软膏、霜、贴膏或喷雾剂等药物制剂产品；作为敏感性皮肤使用，婴儿和儿童化妆品中也可以添加来降低刺激。

技术领域

本发明涉及化妆品及药物的技术领域，特别涉及一类邻氨基苯甲酸衍生物的化合物及其用途。

背景技术

随着现代科技的进步，人们生活水平的提高，人们对于健康美丽的外表的追求越来越强烈。城市污染，工业废气，紫外线照射，不合格化妆品的使用以及各种美疗仪器的滥用也日益危害着我们的皮肤。据统计显示，过敏性皮炎在化妆品皮肤病中最为常见,其发病率占化妆品皮肤病总发病率81.5％。过敏似乎成了人们在追求健康美的道路上如影随形的噩梦。治疗敏感或过敏性皮肤多发的红斑、丘疹、脱屑、瘙痒等病症，通常地需使用到糖皮类激素，但是若长期反复使用激素，会出现皮肤萎缩，毛细血管扩张、紫癜、痤疮色素异常、光过敏等症状，往后会带来无尽的烦恼，且激素治疗易产生依赖性。

皮炎与炎症密切相关，炎症伴有过敏反应，皮肤在过敏原的刺激下，由效应B细胞产生lgE抗体，抗体吸附在肥大细胞和嗜碱粒细胞表面，当相同的过敏原再次进入机体时，就会与吸附在细胞表面的相应抗体结合，使上述细胞释放组胺，引起瘙痒、皮疹、红斑、水肿等过敏反应。

与此同时，在现代都市高效率、快节奏的工作生活中，各种外在、内在的有害因素都会对头发起着伤害作用，很多人都会有头皮屑及脱发的问题存在，严重干扰了人们的日常生活。特别是当天气干燥的时候，身体水分缺失，头皮的水分也不足，容易产生头屑，头皮也容易发痒。头皮屑产生的原因通常分为生理性和病理性，其中病理性头皮屑是一种由马拉色菌引起的皮肤病，马拉色菌在头皮上大量繁殖引起头皮上的角质层过度增生，从而促使角质层细胞以白色或灰色鳞屑的形式异常脱落而形成头皮屑。现有用于治疗头皮屑的洗剂产品种类繁多，但疗效并不理想，易复发，无法彻底去除头皮屑。临床上用于治疗头皮屑的抗真菌药物有酮康唑、二硫化硒等，长期服用会给身体带来副作用，且容易反复，具有一定的依赖性，况且在去头皮屑和调理头发方面的效果并不理想。

因此，针对现有的状况，需要提供一种抗组胺、抗炎、抗过敏效果显著，且副作用小的产品是目前亟需解决的问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：如何通过合成一类化合物，使其具有抗组胺、抑制皮肤瘙痒、红斑、皮疹和过敏、抑制头皮瘙痒和去头屑的功效，并可作为表面活性剂，使其可用于制备化妆品或药物试剂。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：本发明还提出将上述通式1化合物为邻氨基苯甲酸衍生物，其特征在于，结构通式如下：

其中：

R1表示残余碳数为5-17的饱和烷烃；

R2表示为H或盐离子，所述的盐离子包括Na⁺、K⁺、Li⁺、Ca²⁺、Zn²⁺、Mg²⁺、NH⁴⁺或碱性氨基酸(精氨酸、赖氨酸、组氨酸)中任一种。

本发明还提出将上述通式1化合物作为制备由过敏原诱导的，来自肥大细胞的组胺释放抑制的化妆品试剂或者药物的用途。

本发明还提出将上述通式1化合物作为制备抑制皮肤瘙痒、红斑、皮疹和过敏的化妆品试剂或者药物的用途。

本发明还提出将上述通式1化合物作为制备抑制头皮瘙痒、去头屑的化妆品试剂或者药物的用途。