[发明专利]一种电子信息行业生产设备腔体零部件的精密洗净方法

权利要求书

1.一种电子信息行业生产设备腔体零部件的精密洗净方法，其特征在于,包括如下步骤，

待清洗部件分类：根据精密零部件的生产工作环境和外部特征，区分密封面、组装孔、工作面、结构面；

待清洗部件损耗情况检查：检查所述分类过后的各部件，筛选符合使用标准的各部件；

去膜处理：根据膜层情况，将所述筛选后的各部件进行物理去膜或化学去膜处理；

漂洗和超声波浸泡处理：将所述去膜处理后的部件进行去离子水进行漂洗和超声波浸泡作业；

部件干燥处理：使用氮气或压缩空气将所述漂洗和超声波浸泡处理后的部件吹干；

清洗后部件复检:对干燥处理后的部件进行平坦度、角度、粗糙度复检，确保各部件符合使用标准；

喷砂和熔射处理：将复检后的部件进行喷砂和熔射处理；

部件封装：对经过喷砂和熔射处理后的部件进行氮气包装或真空包装，存储备用。

2.如权利要求1所述的电子信息行业生产设备腔体零部件的精密洗净方法，其特征在于，所述漂洗和超声波浸泡处理步骤以及部件干燥处理步骤均在无尘间进行。

3.如权利要求2所述的电子信息行业生产设备腔体零部件的精密洗净方法，其特征在于，所述无尘间等级为100级或10级。

4.如权利要求1所述的电子信息行业生产设备腔体零部件的精密洗净方法，其特征在于，所述漂洗和超声波浸泡处理的具体条件为：漂洗时间5～10s，超声波强度控制为4～20瓦/平方英寸，超声波浸泡时间控制在30分钟以上。

5.如权利要求1所述的电子信息行业生产设备腔体零部件的精密洗净方法，其特征在于，所述物理去膜为：采用水压为50～150bar的高压水刀或水压为1800～2400bar的超高压水刀对零部件进行冲洗。

6.如权利要求1所述的电子信息行业生产设备腔体零部件的精密洗净方法，其特征在于，所述化学去膜为：根据部件的材质、膜质、化学附着物情况，选取具有化学反应选择性的酸、碱、氧化剂等浸泡去膜，所选取的酸、碱、氧化剂等对部件本身无反应或微弱反应。

7.如权利要求1所述的电子信息行业生产设备腔体零部件的精密洗净方法，其特征在于，所述喷砂处理采用高强度白刚玉砂材高速冲击部件表面，形成凹凸层。

8.如权利要求7所述的电子信息行业生产设备腔体零部件的精密洗净方法，其特征在于，所述白刚玉砂材的型号为：24#、36#、46#、80#、220#、400#。

9.如权利要求7所述的电子信息行业生产设备腔体零部件的精密洗净方法，其特征在于，所述喷砂处理后，部件的粗糙度Ra值在0.5～15微米。

10.如权利要求1所述的电子信息行业生产设备腔体零部件的精密洗净方法，其特征在于，所述熔射处理后，部件的粗糙度Ra值在10～40微米。