[发明专利]一种光学膜及其制备方法、光学膜的应用结构在审

专利信息
申请号: 202010271282.4 申请日: 2020-04-08
公开(公告)号: CN111427103A 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 滕超;李士锋;王国伟 申请(专利权)人: 六安屹珹新材料科技有限公司
主分类号: G02B1/10 分类号: G02B1/10
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆宗力
地址: 230088 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 及其 制备 方法 应用 结构
【说明书】:

本申请公开了一种光学膜及其制备方法、光学膜的应用结构,其中,用所述光学膜的制备方法制备的光学膜的涂层组中,第一涂层和第二涂层均为有机涂层,使得所述涂层组可以采用“卷到卷”生产工艺制备,有利于提高光学膜的制备效率、降低光学膜的整体制备难度和制备成本。且相较于无机涂层,有机涂层可以通过配方和工艺调整精确灵活地设定其厚度和/或折射率,以实现对任意波段的光线进行反射或透射,从而可以使得所述光学膜具备炫彩、防伪、增强反射和减反增透中的任意一项或多项功能,大大扩宽了光学膜的应用场景。

技术领域

本申请涉及光学膜制备技术领域,更具体地说,涉及一种光学膜及其制备方法、光学膜的应用结构。

背景技术

光学膜,又称光学薄膜,是由薄的分层介质构成的,通过界面传播光束的一类光学介质材料。目前,光学膜已广泛用于光学和光电子技术领域。

通常情况下,光学膜的种类包括炫彩膜、防伪膜、增强反射膜和减反增透膜等,这些种类的光学膜通常由多层介质膜以层叠的方式构成。

现有技术中的光学膜的制备工艺通常包括多层挤压工艺和真空镀膜工艺,多层挤压工艺制备的多层共挤膜生产过程复杂,对生产工艺要求较高,面对市场多样化的需求,难以灵活调整以满足不同的应用需求;真空镀膜工艺主要是将两种或两种以上具有不同折射率的无机材料靶材分别通过真空镀膜(如真空蒸镀或磁控溅射等)的方法在基底上依次堆积成膜后形成多层层叠的膜层。这种工艺所生产的光学膜附着力强,但是这种生产工艺成膜速度很慢,因此导致生产光学膜的周期长、生产效率低、生产成本高等。

发明内容

为解决上述技术问题,本申请提供了一种光学膜及其制备方法、光学膜的应用结构,以实现提高光学膜的生产效率、缩短光学膜的生产周期以及降低光学膜的生产成本的目的。

为实现上述技术目的,本申请实施例提供了如下技术方案:

一种光学膜的制备方法,包括:

采用“卷到卷”生产工艺在基材表面形成涂层组,所述涂层组包括N层第一涂层和M层第二涂层,所述第一涂层和第二涂层交替层叠设置;M和N均为大于或等于1的整数;

所述第一涂层和所述第二涂层均为有机涂层,所述第一涂层的折射率大于所述第二涂层的折射率。

可选的,所述在基材表面形成涂层组包括:

利用第一有机材料,采用“卷到卷”生产工艺制备所述第一涂层;

利用第二有机材料,采用“卷到卷”生产工艺制备所述第二涂层。

可选的,所述“卷到卷”生产工艺包括:湿法涂布工艺或干法真空镀膜工艺。

可选的,所述湿法涂布工艺包括精密线棒涂布工艺、微凹辊涂布工艺或狭缝挤出涂布工艺;

所述干法真空镀膜工艺包括真空蒸镀工艺。

可选的,所述第一有机材料包括:引入含有芳基或取代芳基结构单元的第一预设有机高分子材料或混入表面改性纳米颗粒的第一预设有机高分子材料,所述表面改性纳米颗粒的折射率大于或等于预设值。

可选的,所述第二有机材料包括:引入含氟结构单元的第二预设有机高分子材料,或经过多孔处理工艺进行处理的所述第二预设有机高分子材料。

可选的,所述对所述有机涂层进行多孔处理工艺,以获得所述第二涂层包括:

对所述有机涂层进行模板技术、纳米刻蚀技术、纳米印迹技术、溶剂挥发诱导技术或自组装技术处理,以获得具有通孔和/或凹槽和/或发泡结构的有机涂层作为所述第二涂层。

一种光学膜,包括:

基材;

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