[发明专利]一种用于激光投影的高对比度抗刮投影幕及其制作方法

权利要求书

1.一种用于激光投影的高对比度抗刮投影幕，包括基材层，及光学微结构阵列层；所述光学微结构阵列层设置在所述基材层上；

所述光学微结构阵列层的外向表面上设有按一定规律形成的近似三角棱形微结构；所述近似三角棱形微结构的三角形向上表面为光吸收面；所述近似三角棱形微结构的三角形向下表面为光反射面；

其特征在于：在所述光学微结构阵列层的表面，设置微结构，形成抗刮结构；所述抗刮结构包括：

在光吸收面设置抗刮结构；所述光学微结构阵列层的向上表面为第一光吸收面，在所述第一光吸收面的顶端设有第一抗刮凹槽，在所述第一抗刮凹槽内填充有吸收面抗刮层，所述吸收面抗刮层的向上表面形成第二光吸收面；所述第一光吸收面与所述第二光吸收面相衔接，形成完整的所述近似三角棱形微结构的光吸收面；

在光反射面设置抗刮结构；所述光学微结构阵列层的向下表面为第一光反射面，在所述第一光反射面的顶端设有第二抗刮凹槽，在所述第二抗刮凹槽内填充有反射面抗刮层，所述反射面抗刮层的向下表面形成第二光反射面；所述第一光反射面与所述第二光反射面相衔接，形成完整的所述近似三角棱形微结构的光反射面。

2.据权利要求1所述的一种用于激光投影的高对比度抗刮投影幕，其特征在于，在光吸收面与光反射面衔接处设置抗刮结构。

3.据权利要求2所述的一种用于激光投影的高对比度抗刮投影幕，其特征在于，所述抗刮结构为在所述三角棱形微结构的三角形向外侧的顶端，即所述光吸收面与光反射面衔接处设置交接圆角；

所述交接圆角设置在所述光学微结构阵列层、或所述吸收面抗刮层与所述反射面抗刮层衔接部位的顶端。

4.据权利要求3所述的一种用于激光投影的高对比度抗刮投影幕，其特征在于，所述第一抗刮凹槽的深度为1um~50um，所述第一抗刮凹槽的长度为5um~50um；所述第一抗刮凹槽内填充的所述吸收面抗刮层厚度为1um~60um；

所述第二抗刮凹槽的深度为1um~50um，所述第二抗刮凹槽的长度为100um~250um；所述第二抗刮凹槽内填充的反射面抗刮层厚度为1um~60um；

所述交接圆角的圆弧半径为2um~40um。

5.据权利要求1所述的一种用于激光投影的高对比度抗刮投影幕，其特征在于，在所述基材层与所述光学微结构阵列层之间，设置漫反射结构；所述漫反射结构为凹凸雾面，所述凹凸雾面为不规则形状的微结构。

6.据权利要求5所述的一种用于激光投影的高对比度抗刮投影幕，其特征在于，所述凹凸雾面为环境光吸收面，所述凹凸雾面的表面粗糙度Ra值为0.10um～3.5um。

7.据权利要求5所述的一种用于激光投影的高对比度抗刮投影幕，其特征在于，所述基材层包括支撑基材层和吸收基材层；所述吸收基材层的表面设有所述凹凸雾面，通过所述凹凸雾面与所述光学微结构阵列层进行连接。

8.据权利要求7所述的一种用于激光投影的高对比度抗刮投影幕，其特征在于，所述吸收基材层为透明黑色材质，材质穿透率为5.5%~20%。

9.据权利要求5所述的一种用于激光投影的高对比度抗刮投影幕，其特征在于，所述光学微结构阵列层为透明黑色材质，材质穿透率为10%~35%。