[发明专利]含有偶氮结构的吡唑酰胺类化合物及其制备和应用

权利要求书

1.一种含有偶氮结构的吡唑酰胺类化合物、其光学异构体、顺反异构体，或其农药学上可接受的盐，其特征在于，所述化合物具有式I所示结构，其中，

R₁选自取代或未取代的下组基团：C1-C6烷基、C3-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、苯基、氢、氨基、羟基、酰胺基、酰氧基、羧基甲基、硝基、氰基、磺酸基、卤素、甲酰基、酰基、羧基；所述取代指被一个或多个卤素取代；

R₂选自下组：C1-C6烷基、C3-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、苯基、氢、氨基、羟基、酰胺基、酰氧基、羧基甲基、硝基、氰基、磺酸基、卤素、甲酰基、酰基、羧基；

R₃选自取代或未取代的下组基团：C1-C6烷基、C3-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、苯基、氢、氨基、羟基、酰胺基、酰氧基、羧基甲基、硝基、氰基、磺酸基、卤素、甲酰基、酰基、羧基；所述取代指被一个或多个卤素取代；

Q选自取代或未取代的下组基团：C6-C10芳基、含1、2或3个选自N、O或S的杂原子的5-14元杂芳基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、C3-C6环烷基、C5-C7环烯基、含1、2或3个选自N、O或S的杂原子的饱和或不饱和5-7元杂环基；所述取代指被一个或多个(如2、3、4或5个)选自下组的取代基取代：卤素、羟基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基、卤代C1-C6烷基、氨基、硝基；

W选自取代或未取代的下组基团：C6-C10芳基、含1、2或3个选自N、O或S的杂原子的5-14元杂芳基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6烷氧基、C3-C6环烷基、C5-C7环烯基、含1、2或3个选自N、O或S的杂原子的饱和或不饱和5-7元杂环基；所述取代指被一个或多个(如2、3、4或5个)选自下组的取代基取代：C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤素、卤代C1-C6烷基、氰基、氨基、硝基。

2.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，Q选自取代或未取代的下组基团：苯基、含1、2或3个选自N、O或S的杂原子的5-6元杂芳基；所述取代指被一个或多个(如2、3、4或5个)选自下组的取代基取代：卤素、羟基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基、C1-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、卤代C1-C6烷基、氨基、硝基。

3.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，Q选自下组：

其中，R₄、R₅、R₆、R₇分别独立地选自下组：氢、卤素、羟基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基、C1-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、卤代C1-C6烷基、氨基、硝基。

4.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，Q选自下组：

其中，R₄、R₅、R₆、R₇分别独立地选自下组：氢、卤素、羟基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基、C1-C6环烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、卤代C1-C6烷基、氨基、硝基。

5.如权利要求1所述的化合物，其特征在于，W选自取代或未取代的下组基团：苯基、含1、2或3个选自N、O或S的杂原子的5-10元杂芳基；所述取代指被一个或多个(如2、3、4或5个)选自下组的取代基取代：C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基、卤素、卤代C1-C6烷基、氰基、氨基、硝基。