[发明专利]一种能有效抑制褐变产生的山葵花苔愈伤组织的培养方法有效
| 申请号： | 202010281668.3 | 申请日： | 2020-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN111280066B | 公开（公告）日： | 2022-09-13 |
| 发明（设计）人： | 王跃华;吴桐宇;吴嘉琪;陈芳;马涛;刘真珍;刘崧任;魏博坤;何佳懋;许班;高健 | 申请（专利权）人： | 成都大学 |
| 主分类号： | A01H4/00 | 分类号： | A01H4/00 |
| 代理公司： | 成都科奥专利事务所(普通合伙) 51101 | 代理人： | 余丽生 |
| 地址： | 610106*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 有效 抑制 产生 葵花 苔愈伤 组织 培养 方法 | ||
1.一种能有效抑制褐变产生的山葵花苔愈伤组织的培养方法，其特征在于包括如下步骤：
(1)外植体的选取和消毒：选取山葵花苔顶芽下10～20cm长度的花苔作为外植体，将其先用浓度为0.1％的升汞消毒4～8min，再用浓度为40～80mg/L的头孢哌酮钠舒巴坦钠无菌水冲洗3～6次，然后用无菌滤纸吸干表面的水分；
(2)愈伤组织诱导培养：将消毒后的山葵花苔切成1～2cm的长度，然后迅速接入改良MS+6-BA0.5～1.5mg/L+2,4-D2.0～4.0mg/L+酪氨酸50～100g/L+葡萄糖10～20g/L+山梨糖5～15g/L+琼脂4.5～5.5g/L的愈伤组织诱导培养基中，在培养温度为18～22℃、每天光照4～8h和光照强度为300～500lx的条件下进行培养，所述改良MS基本培养基的铁盐改为55.6mg/L、KNO3改为316～950mg/L；
(3)愈伤组织增殖预培养：选取颜色为绿色的愈伤组织，放入浓度为50～100mg/L的头孢噻肟钠无菌水中，在摇床转速为100～200r/min、无光照条件下预培养12～24小时；
(4)愈伤组织增殖培养：将预培养后的愈伤组织接入White+6-BA 1.0～2.0mg/L+2,4-D1.0～3.0mg/L+NAA 0.5～1mg/L+植酸2.0～6.0ml/L+蔗糖10～20g/L+EDTA10～20g/L+琼脂4.0～6.0g/L的愈伤组织增殖培养基中，在培养温度14～18℃、每天光照4～6h和光照强度为600～800lx的条件下进行增殖培养；
上述所有培养基的pH值均为5.5。
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