[发明专利]具有隔板的增强用膜

说明书

提供具有隔板的增强用膜，其包括增强用膜P和隔板Q且具有以下特征：在剥离隔板时可发生的剥离起电可被抑制；即使当将隔板从预先贴合至光学部件、电子部件等的暴露的表面侧的具有隔板的增强用膜剥离时，也可减轻对光学部件或电子部件的损害。其中：增强用膜P包括基材层A1和粘合剂层A2；隔板Q包括抗静电脱模层B和基材层B3；粘合剂层A2和抗静电脱模层B直接层叠；和当在23℃的温度和50％RH的湿度下以150°的剥离角度和10m/min的剥离速率将隔板Q从增强用膜P剥离时，粘合剂层A2的表面具有10kV或更低的剥离起电电压，并且抗静电脱模层B的表面具有5.0kV或更低的剥离起电电压。

本申请是申请日为2017年6月30日、申请号为201710521337.0、发明名称为“具有隔板的增强用膜”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及具有隔板的增强用膜。

背景技术

为了赋予光学部件、电子部件等以刚性或抗冲击性，在一些情况下预先将具有隔板的增强用膜贴合至光学部件、电子部件等的暴露的表面侧以对这样的部件进行增强(日本专利申请未审公开No.2014-234460)。

然而，当将隔板从贴合至光学部件、电子部件等的暴露的表面侧的具有隔板的增强用膜剥离时，出现如下问题：发生剥离起电而导致对光学部件或电子部件的损害。

发明内容

本发明的一个目的是提供具有隔板的增强用膜，其包括增强用膜和隔板，所述具有隔板的增强用膜具有以下特征：在剥离隔板时可发生的剥离起电可被抑制；和即使当将隔板从预先贴合至光学部件、电子部件等的暴露的表面侧的具有隔板的增强用膜剥离时，也可减轻对光学部件或电子部件的损害。

根据本发明的一个实施方式的具有隔板的增强用膜包括：增强用膜P；和隔板Q，其中：增强用膜P包括基材层A1和粘合剂层A2；隔板Q包括抗静电脱模层B和基材层B3；粘合剂层A2和抗静电脱模层B直接层叠；和当在23℃的温度和50％RH的湿度下以150°的剥离角度和10m/min的剥离速率将隔板Q从增强用膜P剥离时，粘合剂层A2的表面具有10kV或更低的剥离起电电压，并且抗静电脱模层B的表面具有5.0kV或更低的剥离起电电压。

在一个实施方式中，当在23℃的温度和50％RH的湿度下以150°的剥离角度和10m/min的剥离速率将隔板Q从增强用膜P剥离时，抗静电脱模层B的表面具有1.0×10⁴Ω-1.0×10¹²Ω的表面电阻值。

在一个实施方式中，抗静电脱模层B包含导电聚合物。

在一个实施方式中，抗静电脱模层B包括脱模层B1和抗静电层B2，粘合剂层A2和脱模层B1直接层叠，和当在23℃的温度和50％RH的湿度下以150°的剥离角度和10m/min的剥离速率将隔板Q从增强用膜P剥离时，脱模层B1的表面具有5.0kV或更低的剥离起电电压。

在一个实施方式中，在根据本发明实施方式的具有隔板的增强用膜中，当在23℃的温度和50％RH的湿度下以150°的剥离角度和10m/min的剥离速率将隔板Q从增强用膜P剥离时，脱模层B1的表面具有1.0×10⁴Ω-1.0×10¹²Ω的表面电阻值。

在一个实施方式中，抗静电层B2包含导电聚合物。

在一个实施方式中，增强用膜P以所陈述的顺序包括抗静电层A3、基材层A1、和粘合剂层A2。

在一个实施方式中，隔板Q以所陈述的顺序包括抗静电脱模层B、基材层B3、和抗静电层B4。

在一个实施方式中，抗静电层B4包含导电聚合物。