[发明专利]一种匀胶显影设备使用的高精度胶泵

说明书

本发明公开了一种匀胶显影设备使用的高精度胶泵，半导体加工领域；匀胶显影设备使用的高精度胶泵包括：驱动气缸、连接杆、风囊、壳体、端盖、第一单向阀和第二单向阀；驱动气缸与连接杆的第一端固定连接，风囊与连接杆的第二端固定连接，壳体罩设于风囊外围，驱动气缸通过端盖与壳体固定连接；第一单向阀固定于壳体进料口，第二单向阀固定于壳体出料口；当驱动气缸驱动推动连接杆往复运动时，连接杆带动风囊在壳体运动；本发明的匀胶显影设备使用的高精度胶泵通过单向阀的设计，保证了胶水流动方向的准确性，使喷胶机每次喷胶都能达到一定了喷胶量，提高了喷胶量的精度，同时也避免了首次喷胶量不足需要二次喷胶的过程，减少了胶水的浪费。

技术领域

本发明半导体加工领域，尤其涉及一种匀胶显影设备使用的高精度胶泵。

背景技术

在半导体行业中，光刻工艺应用非常广泛。光刻的基本工艺是由光刻胶涂覆、曝光、显影等步骤构成。光刻胶本身能以液态的形式存在。设备在涂覆光刻胶时对光刻胶的均匀性非常重要。对胶泵的性能、精度要求都非常高。

如中国发明专利CN 105834069A所公开的一种电动喷胶装置及方法，所述电动喷胶装置包括施胶喷头、电动喷胶泵和盛胶瓶，所述施胶喷头与电动喷胶泵上的施胶喷头接口连接相通，所述盛胶瓶与电动喷胶泵上的输胶管接口连接相通；所述施胶喷头包括相互连接的喷头外罩、喷头内罩，所述喷头外罩与喷头内罩之间形成空腔，在喷头内罩上开设喷胶孔。

上述现有技术的喷胶机结构无法完成对光刻胶使用量的准确控制。

发明内容

一、要解决的技术问题

本发明的目的是针对现有技术所存在的上述问题，特提供一种匀胶显影设备使用的高精度胶泵，解决现有喷胶泵无法对光刻胶使用量的准确控制的问题。

二、技术方案

为解决上述技术问题，本发明提供一种匀胶显影设备使用的高精度胶泵，包括：驱动气缸、连接杆、风囊、壳体、端盖、第一单向阀和第二单向阀；驱动气缸与连接杆的第一端固定连接，风囊与连接杆的第二端固定连接，壳体罩设于风囊外围，驱动气缸通过端盖与壳体固定连接；第一单向阀固定于壳体进料口，第二单向阀固定于壳体出料口；当驱动气缸驱动推动连接杆往复运动时，连接杆带动风囊在壳体运动。

其中，驱动气缸与端盖之间设有第一密封圈。

其中，第一单向阀或第二单向阀与壳体的连接处设有第二密封圈。

其中，第一单向阀和第二单向阀均包括阀体、球体、球座和挡圈；球体、球座和挡圈均安装于阀体内；球座设有与球体弧度相同的球面凹孔；球体嵌于球面凹孔内。

其中，挡圈上设有若干喷胶孔。

其中，阀体包括连接口和输送口，连接口与壳体连接，输送口连接有输送管。

其中，第一单向阀中的球座的球面凹孔的球面端朝向阀体的输送口。

其中，第二单向阀中的球座的球面凹孔的开口端朝向阀体的输送口。

其中，第一单向阀和第二单向阀均设有两个球体和两个球座。

三、本发明的有益效果

与现有技术相比，本发明的匀胶显影设备使用的高精度胶泵具有如下有益效果；

通过单向阀的设计，保证了胶水流动方向的准确性，使喷胶机每次喷胶都能达到一定了喷胶量，提高了喷胶量的精度，同时也避免了首次喷胶量不足需要二次喷胶的过程，减少了胶水的浪费；

通过挡圈上设置喷胶孔的设计，使胶水在经过挡圈的时候被喷胶孔均匀的细化，提高了的均匀度；

通过两个球体和两个球座配合的设计，使单向阀进一步提高的逆向截流的效果，进一步提高了胶水流向的准确性。