[发明专利]一种陶瓷粉体、掩膜版及其制作方法

说明书

本发明涉及OLED显示技术领域，具体涉及一种陶瓷粉体、掩膜版及其制作方法，所述陶瓷粉体由以下重量份数的原料组成：Al₂O₃ 44‑48份、AlN 3‑3.5份、SiC 1‑2份、SiO₂ 5‑10份、TiO₂ 5‑6份、ZrO₂ 2.3‑2.8份、ZnO 1‑1.5份、稀土氧化物0.2‑0.4份，其可以在掩膜版表面形成绝缘且耐腐蚀的涂层，延长掩膜版的使用寿命，降低OLED显示装置生产中的成本。

技术领域

本发明涉及OLED显示技术领域，具体涉及一种陶瓷粉体、掩膜版及其制作方法。

背景技术

OLED也被称之为第三代显示技术，OLED不仅更轻薄、能耗低、亮度高、发光率好、可以显示纯黑色，并且还可以做到弯曲，如当今的曲屏电视和手机等。当今国际各大厂商都争相恐后的加强了对OLED技术的研发投入，使得OLED技术在当今电视、电脑(显示器)、手机、平板等领域灵应用愈加广泛。

OLED显示原理与LCD有着本质上的区别，OLED主要是通过电场驱动有机半导体材料和发光材料通过过载流子注入和复合后实现发光。从本质上来说，就是通过ITO玻璃透明电极作为器件阳极，金属电极作为阴极，通过电源驱动，将电子从阴极传输到电子传输层，空穴从阳极注入到空穴传输层，之后分迁移到发光层，二者相遇后产生激子，让发光分子激发，经过辐射后产生光源。简单来说，一块OLED屏幕，就是由百千万个“小灯泡”组成。

OLED显示技术虽具有巨大的市场应用前景，但是目前还存在较多的问题，如：生产技术复杂、设备投入大、工艺复杂及良品率低等。其中，在其蒸镀制程中用于阻隔水和空气的材料SiNx需要通过PECVD技术结合掩膜板(CVD mask)沉积在导电玻璃基板上，由于掩膜板的位置精度要求严格，同时掩膜板需要与导电玻璃接触，容易打火导致产品失效，因此掩膜板需同时满足绝缘且耐腐蚀的要求。在长期服役过程中，掩膜板表面累积大量的SiNx材料导致精度下降，影响OLED封装性能，为了减少掩膜板及腔体内的SiNx材料累积，生产流程中采用NF3等离子体清洗，NF3等离子体在高效去除SiNx材料的同时，含F等离子体对掩膜板材料的腐蚀非常严重，如何进一步提高掩膜板的使用寿命及产品性能是国内外OLED企业的研究重点。

发明内容

发明目的：针对上述技术问题，本发明提供了一种陶瓷粉体、掩膜版及其制作方法，可在掩膜版表面形成绝缘且耐腐蚀的陶瓷涂层，延长掩膜版的使用寿命，降低OLED显示装置生产中的成本。

为了达到上述发明目的，本发明所采用的技术方案如下：

一种陶瓷粉体，由以下重量份数的原料组成：

Al₂O₃ 44-48份、AlN 3-3.5份、SiC 1-2份、SiO₂ 5-10份、TiO₂ 5-6份、ZrO₂ 2.3-2.8份、ZnO 1-1.5份、稀土氧化物0.2-0.4份。

进一步地，所述陶瓷粉体由以下重量份数的原料组成；

Al₂O₃ 45份、AlN 3.5份、SiC 1.2份、SiO₂ 5.2份、TiO₂ 6份、ZrO₂ 2.4份、ZnO 1份、稀土氧化物0.22份。

进一步地，所述稀土氧化物为CeO₂、La₂O₃、Y₂O₃中的一种或多种组合。

进一步地，所述稀土氧化物为La₂O₃、Y₂O₃按重量比1：0:03-0.15复合而成。