[发明专利]一种提高PCVD原料气体沉积均匀性的系统、方法和应用

权利要求书

1.一种提高PCVD原料气体沉积均匀性的系统，其包括：

衬管(2)；

套设于所述衬管(2)外的微波发生器(4)，其被配置为可沿所述衬管(2)的轴向往复移动；

套设于所述微波发生器(4)外的保温炉(3)，其内设有测温探头，用于测定所述微波发生器(4)沿所述衬管(2)的轴向移动过程中保温炉内(3)各实时位置的设定温度；

其中，所述保温炉(3)沿所述衬管(2)的轴向方向依次设有气端区域(20)、中间端区域(21)和泵端区域(22)；

所述微波发生器(4)在各区域的预设输出功率相同；

所述系统还包括与所述保温炉(3)和所述微波发生器(4)连接的PLC控制单元(8)，其被配置为：

在所述微波发生器(4)沿所述衬管(2)的轴向从气端区域(20)至泵端区域(22)移动的过程中，根据所述测温探头反馈的实时位置的设定温度，确定气端区域(20)终止位置或中间端区域(21)起始位置、中间端区域(21)终止位置或泵端区域(22)起始位置，并在气端区域(20)起始位置、泵端区域(22)起始位置降低微波发生器(4)的实际输出功率，且在气端区域(20)和泵端区域(22)维持改变的实际输出功率恒定。

2.根据权利要求1所述的提高PCVD原料气体沉积均匀性的系统，其特征在于，所述微波发生器(4)沿所述衬管(2)的轴向从气端区域(20)至泵端区域(22)移动的过程中的实时位置的设定温度呈先增大后减小再增大的趋势。

3.根据权利要求2所述的提高PCVD原料气体沉积均匀性的系统，其特征在于，所述气端区域(20)的实时位置的设定温度不小于所述预设输出功率对应的温度；

在所述微波发生器(4)沿所述衬管(2)的轴向从气端区域(20)至泵端区域(22)移动的过程中：当所述测温探头反馈的实时位置的设定温度逐渐下降且降至等于所述预设输出功率对应的温度时，该实时位置为气端区域(20)终止位置或中间端区域(21)起始位置；当所述测温探头反馈的实时位置的设定温度与前一实时位置处的温度之差呈反向突变时，该实时位置为中间端区域(21)终止位置或泵端区域(22)起始位置。

4.根据权利要求3所述的提高PCVD原料气体沉积均匀性的系统，其特征在于，所述气端区域(20)的实时位置的设定温度T_气为1000℃≤T_气≤1080℃；所述中间端区域(21)的实时位置的设定温度T_中为950℃≤T_中＜1000℃；所述泵端区域(22)的实时位置的设定温度T_泵为950℃＜T_泵≤1030℃。

5.根据权利要求3所述的提高PCVD原料气体沉积均匀性的系统，其特征在于，所述预设输出功率为7.0kw；所述预设输出功率所对应的温度为994℃-1030℃。

6.根据权利要求1所述的提高PCVD原料气体沉积均匀性的系统，其特征在于，将气端区域(20)起始位置和泵端区域(22)起始位置降低微波发生器(4)的实际输出功率为大于5.0kw且小于7.0kw的任意值。

7.根据权利要求6所述的提高PCVD原料气体沉积均匀性的系统，其特征在于，将气端区域(20)起始位置的微波发生器(4)的实际输出功率降低为5.5kw，将泵端区域(22)起始位置的微波发生器(4)的实际输出功率降低为5.5kw。

8.根据权利要求6所述的提高PCVD原料气体沉积均匀性的系统，其特征在于，将气端区域(20)起始位置的微波发生器(4)的实际输出功率降低为6.0kw，将泵端区域(22)起始位置的微波发生器(4)的实际输出功率降低为5.5kw。

9.根据权利要求1所述的提高PCVD原料气体沉积均匀性的系统，其特征在于，所述气端区域(20)与所述泵端区域(22)的长度均小于所述中间端区域(21)的长度。