[发明专利]显示面板的制作方法

权利要求书

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

步骤S1：提供衬底基板，在所述衬底基板上形成钝化保护层；

步骤S2：在所述钝化保护层远离所述衬底基板一侧涂布光阻材料，并对所述光阻材料进行曝光显影，形成光阻图案；

步骤S3：在所述光阻图案远离所述钝化保护层一侧形成纳米纤维层；

步骤S4：在所述钝化保护层远离所述衬底基板一侧沉积导电材料，所述导电材料覆盖所述纳米纤维层；以及

步骤S5：用光阻剥离液去除所述光阻图案和位于所述光阻图案上的所述纳米纤维层和所述导电材料，形成导电电极图案；

其中，所述步骤S3中，形成所述纳米纤维层的方法包括静电纺丝法。

2.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S3包括：

步骤S31：将聚合物溶解于溶剂中得到聚合物纺丝液，并将所述聚合物纺丝液注入射流装置；以及

步骤S32：在外加电场的作用下，通过所述射流装置在所述光阻图案远离所述钝化保护层一侧形成纳米纤维层。

3.如权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S32中，形成所述纳米纤维层的过程发生在流动的气体氛围中。

4.如权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述气体包括N2或Ar。

5.如权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述聚合物包括聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮或聚丙烯氰。

6.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述纳米纤维层中纳米纤维的直径介于50nm至200nm之间。

7.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S1包括：

步骤S11：提供所述衬底基板，在所述衬底基板上形成第一金属层，采用第一道光罩制程对所述第一金属层进行图案化处理，形成栅极；

步骤S12：在所述栅极以及未被所述栅极覆盖的所述衬底基板上依次形成栅极绝缘层、非晶硅层和第二金属层；

步骤S13：采用第二道光罩制程对所述非晶硅层和所述第二金属层进行图案化处理，形成与所述栅极对应的有源层、源极和漏极；以及

步骤S14：在所述衬底基板上形成所述钝化保护层，所述钝化保护层覆盖所述源极、所述漏极和所述有源层。

8.如权利要求7所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S13中，所述第二道光罩制程所采用的光罩为半色调光罩或灰色调光罩。

9.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述导电材料包括氧化铟锡。