[发明专利]一种铬铝硅靶材及其制备方法

权利要求书

1.一种铬铝硅靶材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)将原料粉末混合均匀，其中铬以铬粉形式加入，粉末粒度为-300目～+400目；铝以铝粉形式加入，粉末粒度为-200目～+400目；硅以硅粉形式加入，粉末粒度为-300目～+400目；所述原料粉末由铬粉、铝粉和硅粉组成；

(2)将混合均匀的粉末装入包套；

(3)将装满粉末的包套进行高温除气，除气完成后对包套进行封焊；

(4)将脱气完成的包套进行热等静压处理，热等静压保温温度为400～500℃，保温压力为80～150MPa，保温保压时间2～5h；

(5)将热等静压完成后形成的锭坯进行机械加工制备成铬铝硅靶材。

2.如权利要求1所述的一种铬铝硅靶材的制备方法，其特征在于：步骤(1)所述的粉末混合时，在混料腔室中加入粉末总重量比例1～20％的5～20毫米的不锈钢球。

3.如权利要求1所述的一种铬铝硅靶材的制备方法，其特征在于：步骤(3)说述的包套除气温度为200～500℃，真空度小于5×10^-3Pa的情况下保持时间大于3小时。

4.一种如权利要求1-3任一项所述的制备方法制备的铬铝硅靶材，其特征在于，按原子百分比计算，其化学组成为铬20～80％、铝20～90％、0％硅≤25％。

5.如权利要求4所述的一种铬铝硅靶材，其特征在于，微观结构为铬颗粒、硅颗粒镶嵌在铝基体中。