[发明专利]顶发光型显示装置及其制备方法有效
申请号: | 202010290445.3 | 申请日: | 2020-04-14 |
公开(公告)号: | CN111490079B | 公开(公告)日: | 2022-10-04 |
发明(设计)人: | 李少方 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 何辉 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 显示装置 及其 制备 方法 | ||
1.一种顶发光型显示装置,其特征在于,包括:
衬底基板;
薄膜晶体管阵列层,设置于所述衬底基板的一侧表面;
OLED器件,设置于所述薄膜晶体管阵列层远离所述衬底基板的一侧;及
第三电极,设置于所述OLED器件的其中一侧表面,所述第三电极与所述薄膜晶体管阵列层电性连接;所述第三电极材料为电致变色材料,所述第三电极至少包括两种不同透射率的状态,透射率分别为T1和T2,其中T1>T2。
2.根据权利要求1所述的顶发光型显示装置,其特征在于,当所述第三电极设置于所述OLED器件远离所述薄膜晶体管阵列层的一侧表面,所述第三电极在正常显示时透射率为T1,在修复定位时透射率为T2。
3.根据权利要求1所述的顶发光型显示装置,其特征在于,当所述第三电极设置于所述OLED器件靠近所述薄膜晶体管阵列层的一侧表面,所述第三电极在正常显示时透射率为T2,在修复定位时透射率为T1。
4.根据权利要求1所述的顶发光型显示装置,其特征在于,所述第三电极的材料为二维材料二硒化钼、二维材料三氧化钨、二维材料氧化镍或二维材料二氧化钛中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的顶发光型显示装置,其特征在于,所述第三电极在所述衬底基板上的正投影面积不小于所述OLED器件在所述衬底基板上的正投影面积。
6.根据权利要求1所述的顶发光型显示装置,其特征在于,还包括封装基板和连接线路,所述封装基板设置于所述OLED器件或所述第三电极的远离所述薄膜晶体管阵列层的一侧表面,所述连接线路分别连接所述薄膜晶体管阵列层与所述第三电极,通过电压控制所述第三电极的透射率状态,实现正常显示和修复定位。
7.根据权利要求1所述的顶发光型显示装置,其特征在于,所述OLED器件包括层叠设置的第一阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层、第一阴极及设置于两侧的像素定义层。
8.一种顶发光型显示装置的制备方法,其特征在于,制备如权利要求1至7任一所述的顶发光型显示装置,所述制备方法包括:
提供一衬底基板,在所述衬底基板的一侧表面制备薄膜晶体管阵列层和连接线路,所述连接线路的第一端与所述薄膜晶体管阵列层连接;
在所述薄膜晶体管阵列层远离所述衬底基板的一侧制备所述OLED器件和第三电极,所述第三电极与所述连接线路的第二端连接;所述第三电极材料为电致变色材料,所述第三电极至少包括两种不同透射率的状态,透射率分别为T1和T2,其中T1>T2;
其中,制备所述第三电极的方法为溅射、蒸镀或化学气相沉积。
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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