[发明专利]一种提高AlCrSiN/Mo纳米复合涂层韧性与耐磨性的热处理工艺有效
申请号: | 202010293373.8 | 申请日: | 2020-04-15 |
公开(公告)号: | CN111424254B | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
发明(设计)人: | 王铁钢;朱强;蒙德强;刘艳梅;阎兵;范其香 | 申请(专利权)人: | 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心) |
主分类号: | C23C14/58 | 分类号: | C23C14/58;C22F1/16 |
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地址: | 300222 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 alcrsin mo 纳米 复合 涂层 韧性 耐磨性 热处理 工艺 | ||
1.一种提高AlCrSiN/Mo纳米复合涂层韧性与耐磨性的热处理工艺,其特征在于:该工艺是采用真空管式炉对AlCrSiN/Mo纳米复合涂层进行热处理,通过控制不同热处理阶段的升温速率、保温时间及降温速率,提高AlCrSiN/Mo纳米复合涂层的韧性与耐磨性;
所述AlCrSiN/Mo纳米复合涂层是利用HiPIMS/Pulse DC复合磁控溅射系统,在单晶Si片和高温合金基片上沉积AlCrSiN/Mo涂层,涂层制备过程包括如下步骤(a)-(e):
(a)基体依次在丙酮和乙醇中超声清洗30min,然后用高纯N2吹干,再固定于真空室内旋转支架上;其中,Cr靶连接到电弧电源,CrMo靶连接到脉冲直流磁控溅射电源,AlCrSi靶连接到高功率脉冲磁控溅射电源;
旋转支架转速设置为2.5 r/min,靶基距分别为AlCrSi靶80 mm、CrMo靶80 mm、Cr靶280mm;镀膜过程工作气体和反应气体分别通入纯度均为99.999%的Ar和N2;
(b)辉光放电清洗:将本底真空度抽至小于3.0×10-3 Pa,镀膜室加热至400 ℃,施加-800 V偏压,通入流量为200 sccm的Ar,保持工作压强为1.5 Pa,辉光放电清洗15 min;去除基体表面污染物;
(c)离子轰击:辉光放电清洗后再开启电弧Cr靶进行离子轰击,设定弧源电流90 A,弧源电压20 V~20.3 V,通入Ar流量200 sccm,保持工作压强为5×10-1 Pa,离子轰击清洗8min,以改善膜基界面结合,提高涂层的结合强度;
(d)沉积CrN过渡层:维持电弧Cr靶参数不变,通入Ar流量为50 sccm,N2 流量为200sccm,保持工作压强为8×10-1 Pa,沉积CrN过渡层15 min,减小涂层与基体间热膨胀系数差异,提高膜/基结合力;
(e)制备AlCrSiN/Mo自润滑薄膜:降低偏压至-150 V,再通入反应气体N2,流量为50sccm,Ar流量为250 sccm,保持Ar和N2总流量为300 sccm,调节沉积压强为1.6 Pa,CrMo靶溅射功率为0.4 kW,AlCrSi靶溅射功率为1.2 kW,严格控制沉积时间360 min,制备AlCrSiN/Mo复合薄膜;
所述AlCrSiN/Mo纳米复合涂层的热处理工艺包括如下步骤(1)-(2):
(1)将带有AlCrSiN/Mo纳米复合涂层的涂层样品固定于陶瓷坩埚中,然后放入管式炉的真空管内,并抽真空使管内真空度小于3×10-3 Pa;
(2)对涂层样品进行热处理,热处理过程为:首先升温至温度T,T=550-750℃,再进行保温,保温时间50~80min;然后按照3~6℃/min的降温速率降至室温,取出样品;其中:所述升温过程具体为:首先按照7℃/min的升温速率升温至温度T1,T1=(T-90℃)~(T-110℃);再以10℃/min的升温速率升温至温度T2,T2=(T-20℃)~(T-50℃);最后以8℃/min的升温速率升温至温度T。
2.根据权利要求1所述的提高AlCrSiN/Mo纳米复合涂层韧性与耐磨性的热处理工艺,其特征在于:所述涂层样品的基体为单晶硅片、高温合金或硬质合金立铣刀。
3.根据权利要求1所述的提高AlCrSiN/Mo纳米复合涂层韧性与耐磨性的热处理工艺,其特征在于:对涂层样品进行热处理后,所述AlCrSiN/Mo纳米复合涂层由AlN纳米晶相、CrN纳米晶相、Mo2N纳米晶相和Si3N4非晶相形成纳米复合结构。
4.根据权利要求1所述的提高AlCrSiN/Mo纳米复合涂层韧性与耐磨性的热处理工艺,其特征在于:按原子百分比计,所述AlCrSiN/Mo纳米复合涂层的化学成分如下:Al 14.75~16.71 at.%,Cr 29.49~33.19 at.%,N 42.22~48.42 at.%,Si 1.91~7.96 at.%,Mo 5.0~6.33 at.%。
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