[发明专利]一种基材表面处理方法及其应用有效
| 申请号： | 202010293788.5 | 申请日： | 2020-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN113543524B | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 马永梅;张京楠;叶钢;曹新宇;郑鲲 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所 |
| 主分类号： | H05K3/42 | 分类号： | H05K3/42;C25D5/54 |
| 代理公司： | 北京元中知识产权代理有限责任公司 11223 | 代理人： | 李达宽 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基材 表面 处理 方法 及其 应用 | ||
1.一种基材表面处理方法，其特征在于，包括：
(1)对基材待电镀的表面进行预洗处理；
(2)将配制而成的石墨烯分散液涂覆于步骤(1)中经预洗的基材待电镀表面，以形成可供直接电镀的导电层；
所述石墨烯分散液包括水、石墨烯、大分子分散剂和水溶性高分子，所述石墨烯与大分子分散剂呈共轭体系；
所述石墨烯分散液的制备方法为：
将大分子分散剂溶于去离子水中，经物理方法处理得到修饰液，再将石墨烯加入修饰液中，将石墨烯和大分子分散剂经物理方法处理后所得到的混合液和水溶性高分子的水溶液混合得到石墨烯分散液；
所述石墨烯与水溶性高分子的质量比为1:0.01～5；所述石墨烯与大分子分散剂的质量比为1:0.05～20。
2.根据权利要求1所述基材表面处理方法，其特征在于，所述水溶性高分子选自聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯亚胺、聚乙二醇中的一种或几种。
3.根据权利要求1或2所述基材表面处理方法，其特征在于，
所述物理方法选自研磨、超声处理中的一种或两种。
4.根据权利要求1所述基材表面处理方法，其特征在于，所述石墨烯分散液中，石墨烯的平均层数不大于10。
5.根据权利要求4所述基材表面处理方法，其特征在于，所述石墨烯分散液中，石墨烯的平均层数为1～5层。
6.根据权利要求1所述基材表面处理方法，其特征在于，所述石墨烯与大分子分散剂的质量比为1:0.5～3；所述石墨烯在石墨烯分散液中的质量分数为0.05～10％；所述大分子分散剂为带有磺酸基团或磺酰基团的芳香环大分子聚合物，其分子量范围为2000～100000。
7.根据权利要求6所述基材表面处理方法，其特征在于，石墨烯在石墨烯分散液中的质量分数为0.1～5％。
8.根据权利要求6所述基材表面处理方法，其特征在于，大分子分散剂为带有磺酸基团或磺酰基团的芳香环大分子聚合物，其分子量范围为3000～20000。
9.根据权利要求8所述基材表面处理方法，其特征在于，大分子分散剂为带有磺酸基团或磺酰基团的芳香环大分子聚合物，其分子量范围为5000～10000。
10.根据权利要求6所述基材表面处理方法，其特征在于，所述石墨烯与大分子分散剂的质量比为0.1～5％。
11.根据权利要求6所述基材表面处理方法，其特征在于，所述大分子分散剂的分子量范围为3000～20000。
12.根据权利要求6所述基材表面处理方法，其特征在于，所述大分子分散剂的分子量范围为5000～10000。
13.根据权利要求3所述基材表面处理方法，其特征在于，所述研磨的转速为100～5000rpm；所述研磨的时间为1min～3h。
14.根据权利要求13所述基材表面处理方法，其特征在于，所述研磨的转速为300～1000rpm。
15.根据权利要求13所述基材表面处理方法，其特征在于，所述研磨的时间为10min～1h。
16.根据权利要求3所述基材表面处理方法，其特征在于，所述超声的频率为1～40kHz；所述超声的时间为1min～3h。
17.根据权利要求13所述基材表面处理方法，其特征在于，所述超声的频率为10～25kHz。
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