[发明专利]光学膜的缺陷判断方法及缺陷判断系统在审

专利信息
申请号: 202010293850.0 申请日: 2020-04-15
公开(公告)号: CN111507955A 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 李世欣;吴精文 申请(专利权)人: 住华科技股份有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T7/11;G06T7/62
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 张燕华
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光学 缺陷 判断 方法 系统
【说明书】:

缺陷判断方法包括以下步骤。首先,获取光学膜的侧面的图像,图像包含光学膜图像区及背景区。然后,取得光学膜图像区的一边界基准线,图像中位于边界基准线上方的面积为基准背景面积。然后,取得基准背景面积相对于背景区的背景区面积的面积差值。然后,依据面积差值,判断光学膜的缺陷类型。

技术领域

发明是有关于一种缺陷判断方法及缺陷判断系统,且特别是有关于一种 光学膜的缺陷判断方法及缺陷判断系统。

背景技术

习知光学膜在制作完成后通常需要分割成数条面积较小的光学膜。在分割 后,必须以人工肉眼观察方式,观察切割后光学膜的断面(侧面)是否具有缺陷 以及缺陷种类。然而,人工肉眼观察方式容易造成误判。因此,提出一种新的 可增加判断准确度的缺陷判断技术是本技术领域业者努力的目标之一。

发明内容

本发明实施例提出一种光学膜的缺陷判断方法及缺陷判断系统,可改善上 述问题。

本发明一实施例提出一种光学膜的缺陷判断方法。缺陷判断方法包括以下 步骤。获取一光学膜的侧面的一图像,图像包含一光学膜图像区及一背景区; 取得光学膜图像区的一边界基准线,图像中位于边界基准线上方的面积为一基 准背景面积;取得基准背景面积相对于背景区的一背景区面积的一面积差值; 以及,依据面积差值,判断光学膜的一缺陷之类型。

本发明另一实施例提出一种光学膜的缺陷判断系统。输送系统包括一摄像 器及一判断器。摄像器用以获取一光学膜的侧面的一图像,其中,图像包含一 光学膜图像区、一背景区及一缺陷区。判断器用以:取得光学膜图像区的一边 界基准线,图像中位于边界基准线上方的面积为一基准背景面积;取得基准背 景面积相对于背景区的一背景区面积的一面积差值;以及,依据面积差值,判 断光学膜的一缺陷的类型。

本发明另一实施例提出一种光学膜的切割系统。切割系统包括多个滚轮、 一切割刀具及如前述的缺陷判断系统。缺陷判断系统发摄像器邻近于光学膜的 侧面配置。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述,但不作为对本发明的 限定。

附图说明

图1为依照本发明一实施例的光学膜的切割系统的示意图。

图2为图1的缺陷判断系统的功能方块图。

图3A~3C为图2的缺陷判断系统的缺陷判断方法的流程图。

图4A1~4F为图1的光学膜可能发生的数种缺陷类型的图像。

其中,附图标记:

10:光学膜

11:第一子光学膜

11s1、11s2、12s1、12s2:侧面

12:第二子光学膜

20:切割系统

21:滚轮

22:切割刀具

23:激光切割器

100:缺陷判断系统

110A~110D:摄像器

120:判断器

Ab:背景区面积

AL:基准背景面积

ΔA:面积差值

D1:缺陷

D1c:中心点

Gd,av:缺陷区平均灰阶值

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