[发明专利]曝光装置及其性能评价方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具有：

至少1个狭缝，其沿曝光对象的曝光面形成；

测光部，其在使排列有多个条状图案的图案列的光、即线和空间图案光，即L/S图案光依次通过所述狭缝时，进行受光；以及

运算部，其根据基于所述测光部的输出而检测出的光量分布波形，运算与至少2个光学性能相关的评价值，

将L/S图案光的图案间隔、L/S图案光的图案宽度以及所述狭缝的狭缝宽度确定成使光量分布波形的谷部分为大致平坦。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述图案宽度是所述狭缝宽度的3倍以上的长度。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

所述图案间隔是所述狭缝宽度的3倍以上的长度。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

光量分布波形为从谷部分的两端朝向山部分的顶部直线状地倾斜的波形。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述运算部计算光量分布波形的高度和偏移值。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还具有：

评价部，其根据偏移值与光量分布波形的高度之比，判断光学元件的性能劣化。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述运算部计算光量分布波形的谷部分的宽度的长度。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还具有：

评价部，其根据被检测的谷部分的宽度的长度的减少程度，判断是否是聚焦范围。

9.一种曝光装置的性能评价方法，在所述性能评价方法中，

使排列有多个条状图案的图案列的光即线和空间图案光，即L/S图案光依次通过狭缝，

在测光部对透过狭缝的光进行受光，

根据基于所述测光部的输出而检测出的光量分布波形，运算与至少2个光学性能相关的评价值，

根据至少2个评价值，评价光学性能，

其特征在于，

将所述L/S图案光以及所述狭缝形成为使得光量分布波形的谷部分为大致平坦。