[发明专利]一种具有精密恒温控制功能的光电模块组件及其制造方法有效
申请号: | 202010295983.1 | 申请日: | 2020-04-15 |
公开(公告)号: | CN111370564B | 公开(公告)日: | 2022-10-28 |
发明(设计)人: | 毛虎;汪国平;毛森;王彦孚;焦英豪;舒文鸿 | 申请(专利权)人: | 广东鸿芯科技有限公司 |
主分类号: | H01L35/10 | 分类号: | H01L35/10;H01L23/34;H01L23/38;H01L25/16;H01L35/16;H01L35/26;H01L35/34 |
代理公司: | 贵阳中工知识产权代理事务所 52106 | 代理人: | 杨成刚 |
地址: | 523690 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 精密 恒温 控制 功能 光电 模块 组件 及其 制造 方法 | ||
1.一种具有精密恒温控制功能光电模块组件的制造方法,其特征在于,所述光电模块组件包括:三氧化二铝陶瓷、氧化铍陶瓷或微晶玻璃基片(1),光发射组件(2),光接收组件(3),集成电路芯片(4),片式元器件(5), NTC薄膜电阻(6),光电模块组件顶层金属电极(7),NTC薄膜电阻金属电极(8),多层布线绝缘介质层(9),集成TEC热电致冷器(200);
所述集成TEC热电致冷器(200)包括:集成TEC p型半导体(201),集成TEC n型半导体(202),集成TEC顶层金属电极(203),集成TEC底层金属电极(204),集成TEC球型负电极(205),集成TEC球型正电极(206),集成TEC第一层绝缘介质隔离层(207),集成TEC第二层绝缘介质隔离层(208),集成TEC二氧化硅缓冲层(209);
所述三氧化二铝陶瓷、氧化铍陶瓷或微晶玻璃基片(1)的上层为所述NTC薄膜电阻(6)、多层布线绝缘介质层(9);
所述NTC薄膜电阻(6)的两端上层为NTC薄膜电阻金属电极(8),所述NTC薄膜电阻(6)的两端之外的中部上层为多层布线绝缘介质层(9);所述NTC薄膜电阻金属电极(8)的上层为多层布线绝缘介质层(9);所述NTC薄膜电阻(6)位于所述光发射组件(2)的正下方;
所述多层布线绝缘介质层(9)上层为所述光电模块组件顶层金属电极(7),所述光电模块组件顶层金属电极(7)的上层组装有所述光发射组件(2)、所述光接收组件(3)、所述集成电路芯片(4)、片式元器件(5);
所述三氧化二铝陶瓷、氧化铍陶瓷或微晶玻璃基片(1)下层为所述集成TEC二氧化硅缓冲层(209),所述集成TEC二氧化硅缓冲层(209)的下层为所述集成TEC顶层金属电极(203)、所述集成TEC第一层绝缘介质隔离层(207),所述集成TEC顶层金属电极(203)的下层为所述集成TEC p型半导体(201)、所述集成TEC n型半导体(202)、集成TEC第一层绝缘介质隔离层(207),所述集成TEC p型半导体(201)与所述集成TEC n型半导体(202)之间被所述集成TEC第一层绝缘介质隔离层(207)隔离,所述集成TEC底层金属电极(204)上层为所述TEC p型半导体(201)、所述TEC n型半导体(202)、所述集成TEC第一层绝缘介质隔离层(207);
所述集成TEC底层金属电极(204)的两端的下层为所述集成TEC球型负电极(205)、所述集成TEC球型正电极(206);
所述集成TEC底层金属电极(204)的除光电模块组件两端的集成TEC球型负电极(205)和集成TEC球型正电极(206)之外的中部下层为所述集成TEC第二层绝缘介质隔离层(208);
所述光电模块组件的制备方法是以所述三氧化二铝陶瓷、氧化铍陶瓷或微晶玻璃基片(1)为载体,在所述三氧化二铝陶瓷、氧化铍陶瓷或微晶玻璃基片(1)的正面将所述光发射组件(2)、所述光接收组件(3)、所述集成电路芯片(4)、所述片式元器件(5)、所述NTC薄膜电阻(6)集成为一体;在所述三氧化二铝陶瓷、氧化铍陶瓷或微晶玻璃基片(1)的背面将所述集成TEC热电致冷器(200)有机地集成在一体,采用所述集成TEC球型负电极(205)、所述集成TEC球型正电极(206)进行电极引出,具体做法是:
S1, 准备所述三氧化二铝陶瓷、氧化铍陶瓷或微晶玻璃基片(1);
S2, 溅射所述集成TEC二氧化硅缓冲层(209)、所述集成TEC顶层金属电极(203);
S3, 光刻所述集成TEC顶层金属电极(203);
S4, 溅射所述集成TEC p型半导体(201);
S5, 刻蚀所述集成TEC p型半导体(201);
S6, 溅射所述集成TEC第一层绝缘介质隔离层(207),并进行CMP抛光;
S7, 刻蚀所述第一层绝缘介质隔离层(207);
S8, 溅射所述集成TEC n型半导体(202),并进行CMP抛光;
S9, 溅射所述集成TEC底层金属电极(204);
S10, 刻蚀所述集成TEC底层金属电极(204);
S11, 溅射所述集成TEC第二层绝缘介质隔离层(208);
S12, 刻蚀所述集成TEC第二层绝缘介质隔离层(208);
S13, 溅射所述NTC薄膜电阻(6),刻蚀所述NTC薄膜电阻(6);
S14,溅射所述NTC薄膜电阻金属电极(8),刻蚀所述NTC薄膜电阻金属电极(8);
S15,溅射所述多层布线绝缘介质层(9);
S16,溅射所述光电模块组件顶层金属电极(7);
S17,刻蚀所述光电模块组件顶层金属电极(7);
S18,溅射、光刻所述集成TEC引脚金属层,并进行高温回流形成所述集成TEC球型负电极(205)、所述集成TEC球型正电极(206);
S19,装贴所述光发射组件(2)、所述光接收组件(3)、所述集成电路芯片(4)、所述片式元器件(5)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东鸿芯科技有限公司,未经广东鸿芯科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010295983.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种多功能智能化眼镜
- 下一篇:一种传感器封装结构及其制备方法