[发明专利]一种光刻胶及其制备的显示面板

说明书

本申请提供一种光刻胶及制备的显示面板，所述光刻胶添加有光敏可聚化合物，在第一波长的光照下，光敏可聚化合物表现为亲水性可聚化合物，在第二波长的光照下，光敏可聚化合物表现为疏水性可聚化合物。通过对显示面板的光刻胶的剥离区和非剥离区提供不同波长的光照，光刻胶在剥离区表现为亲水性可聚化为物，与基板作用力减小；在非剥离区内表现为疏水性可聚化合物与基板作用力增大，使得光刻胶在显示面板剥离区更容易剥离，在显示面板非剥离区不易剥离，从而增加显示面板制程中光刻胶的剥离效率。

技术领域

本申请涉及显示领域，具体涉及一种光刻胶及其制备的显示面板。

背景技术

在LCD面板的制造工艺中，黑色矩阵，像素层、框胶、支撑柱等都是经由光刻胶黄光照射而成。然而随着面板尺寸日益增大，对面板内材料厚度及均匀性的要求越来越高，这就要求各光阻层材料具有较好的流平性。

然而增加光阻层材料的流平性，需要添加溶剂增强光刻胶的亲水性，这样光刻胶与面板的作用力减小，使得光阻在刻蚀过程中更容易被显影液去除，这样增大了显示面板各层之间发生剥离的风险；但增强光刻胶的疏水性，又会造成光刻胶与面板作用力过大，增加光刻胶的剥离难度。

因此现有技术存在，在光刻胶剥离过程中，显示面板各层之间容易产生剥离风险以及出现光刻胶残留的问题。

申请内容

本申请实施例提供一种显示面板、彩膜基板及其制作方法，可以有效缓解现有技术存在显示面板制作过程中，光阻剥离效率低的问题。

为解决以上问题，本申请提供的技术方案如下：

本申请提供一种光刻胶，所述光刻胶添加有光敏可聚化合物，在第一波长的光照下，所述光敏可聚化合物表现为亲水性可聚化合物，在第二波长的光照下，所述光敏可聚化合物表现为疏水性可聚化合物。

在一些实施例中，所述光敏可聚化合物包括偶氮苯。

在一些实施例中，所述第一波长的光为波长范围在10纳米到400纳米之间的紫外光。

在一些实施例中，所述第二波长的光为波长范围在450纳米到780纳米之间的可见光。

在一些实施例中，所述光刻胶还包括有机树脂。

在一些实施例中，所述有机树脂的分子链段中含有羧基官能团。

在一些实施例中，所述光敏可聚化合物在光刻胶中的质量占比为百分之三十到百分之七十。

本申请提供一种液晶显示面板，采用上述的光刻胶制备。

在一些实施例中，所述液晶显示面板包括：相对设置的彩膜基板和阵列基板，液晶盒设置在所述彩膜基板和所述阵列基板之间，所述彩膜基板和阵列基板通过框胶连接；

其中，所述彩膜基板包括层叠设置的衬底、黑色矩阵、色组层、平坦层、支撑柱，其中，所述黑色矩阵、色组层、支撑柱、框胶中至少一种采用上述的光刻胶制备。

在一些实施例中，所述液晶显示面板包括：相对设置的彩膜基板和阵列基板，液晶盒设置在所述彩膜基板和所述阵列基板之间，所述彩膜基板和阵列基板通过框胶连接；

其中，所述彩膜基板包括层叠设置的衬底、黑色矩阵、平坦层、彩膜片、支撑柱，所述阵列基板包括色阻层，其中，所述黑色矩阵、色组层、支撑柱、框胶中至少一种采用上述的光刻胶制备。