[发明专利]祛痘护肤制剂

说明书

本发明公开了一种祛痘护肤制剂，包括以下质量份的组分：山柰根提取物：10‑100份；萜品醇：0.1‑1份。使用山柰根提取物、萜品醇等作为活性成分，制得了一种祛痘护肤制剂，通过体外抑菌、体内抗炎以及人体功效试验，证实其具有良好的祛痘作用。本发明还运用现代技术对其进行提取、纯化、分析和研制，所制备山柰（KAEMPFERIA GALANGA）根提取物活性成分含量高，无需额外的溶剂分离步骤，具有高效、经济、环保等优点。

技术领域

本发明涉及化妆品领域，具体涉及一种祛痘护肤制剂。

背景技术

痤疮，俗称青春痘，是一种由多因素引起的毛囊皮脂腺慢性炎症，在各类人群，尤其在青少年男女中普遍发生，主要在患者的面部及胸背部，形成粉刺、丘疹、脓疱、结节、囊肿等，给患者心理和社会交往带来负面的影响。

西医认为引发痤疮的重要原因之一是痤疮丙酸杆菌及其他微生物大量增生繁殖，并产生溶脂酶，分解皮脂产生游离酸，导致毛囊壁损伤破裂，淤积的皮脂进入周围真皮组织，从而造成从炎性丘疹到囊肿性损害的一系列临床表现。而中医理论认为痤疮为肺、脾、胃三经有热，外感毒邪以致血热郁、滞肌肤，或过食肥、甘、辛、辣食物，以致脾胃生热，生湿上熏皮肤而成。

现今治疗痤疮的方法多样，西医治疗主要以抗生素、激素类、外用维 A 酸等；中医主要有丹参、藏红花、黄岑、黄连、金银花等中药内服外敷法。患者长期使用激素、抗生素类化学物质可能会产生严重的毒副作用，造成皮肤慢性损伤。随着人们生活水平的提高，化妆品的功效、安全、品质越来越受关注，草本化妆品由于其天然毒副作用小越来越受到消费者的青睐。

发明内容

本发明的目的是在于提供一种祛痘护肤制剂，采用天然中草药为原料，运用现代技术对其进行提取、纯化、分析和研制，制得一种新型草本复方祛痘制剂。

本发明的具体技术方案如下：

本发明提供一种祛痘护肤制剂，所述祛痘护肤制剂包括以下质量份的组分：

山柰（KAEMPFERIA GALANGA）根提取物：10-100份；

萜品醇：0.1-1份。

在其中一些实施例中，所述的祛痘护肤制剂包括以下质量份的组分：

山柰（KAEMPFERIA GALANGA）根提取物：55份；

萜品醇：0.5份。

在其中一些实施例中，所述的祛痘护肤制剂还包括以下质量份的组分：

聚季铵盐-73的1‰水溶液： 1-5份；

水杨酸：1-5份；

苦参碱：1-5份。

根据本发明的祛痘护肤制剂在化妆品或护肤品中的应用。

根据本发明的应用，以所述化妆品或所述护肤品的总重量的重量百分比计，所述祛痘组合物的加入量为1-15％，优选为5％-10％。

根据本发明的应用，所述化妆品或所述护肤品包括水剂型、啫喱剂型或乳剂型。

本发明还提供了上述山柰（KAEMPFERIA GALANGA）根提取物的制备方法，包括如下步骤：（1）将晒干的山柰根粉碎，获得山柰根粉末；（2）然后通入低压水蒸气软化；（3）装入层析柱，加入1,3-丙二醇，室温下静置浸泡，使目标成分充分溶解；（4）用1,3-丙二醇水溶液洗脱，收集洗脱液，离心，获得上清液，即得。

在其中一些实施例中，步骤（1）中所述的山柰根粉末的粒径为小于10-50目。

在其中一些实施例中，步骤（2）中所述山柰根粉末完全软化时含水量为50-60%。本发明中通入低压水蒸气的目的在于使山柰根粉末在低含水量的情况下快速均匀软化。