[发明专利]显示屏的控制方法、装置、存储介质、处理器和电子设备在审
申请号: | 202010297296.3 | 申请日: | 2020-04-15 |
公开(公告)号: | CN111627368A | 公开(公告)日: | 2020-09-04 |
发明(设计)人: | 李旭东;郭春成 | 申请(专利权)人: | 硅谷数模(苏州)半导体有限公司;硅谷数模国际有限公司 |
主分类号: | G09G3/20 | 分类号: | G09G3/20 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 霍文娟 |
地址: | 215011 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 显示屏 控制 方法 装置 存储 介质 处理器 电子设备 | ||
1.一种显示屏的控制方法,其特征在于,显示屏包括依次叠置的背板、下层变色层、透明显示层、上层变色层和面板,所述控制方法包括:
确定所述显示屏的显示模式,所述显示模式包括透明显示模式、正向显示模式和反向显示模式;
根据所述显示模式确定所述上层变色层的第一目标状态和所述下层变色层的第二目标状态;
控制所述上层变色层处于所述第一目标状态以及控制所述下层变色层的处于对应的所述第二目标状态,使得所述显示屏调至所述显示模式。
2.根据权利要求1所述的控制方法,其特征在于,控制所述上层变色层处于所述第一目标状态以及控制所述上层变色层的处于对应的所述第二目标状态,包括:
获取所述上层变色层的第一当前状态和所述下层变色层的第二当前状态;
在所述第一当前状态与所述第一目标状态不一致的情况下,控制所述上层变色层调整至所述第一目标状态;
在所述第二当前状态与所述第二目标状态不一致的情况下,控制所述下层变色层调整至所述第二目标状态。
3.根据权利要求1所述的控制方法,其特征在于,根据所述显示模式确定所述上层变色层的第一目标状态和所述下层变色层的第二目标状态,包括:
在所述显示模式为所述透明显示模式的情况下,所述上层变色层和所述下层变色层的目标状态均为无色透明;
在所述显示模式为所述正向显示模式的情况下,所述上层变色层的目标状态为无色透明且所述下层变色层的目标状态为不透明;
在所述显示模式为所述反向显示模式的情况下,所述上层变色层的目标状态为不透明且所述下层变色层的目标状态为无色透明。
4.根据权利要求1所述的控制方法,其特征在于,所述上层变色层和所述下层变色层为电致变色玻璃,
在所述显示模式为所述透明显示模式的情况下,控制所述上层变色层处于所述第一目标状态以及控制所述上层变色层的处于对应的所述第二目标状态包括:
控制所述上层变色层和所述下层变色层的输入电压均为低电平,
在所述显示模式为所述正向显示模式的情况下,控制所述上层变色层处于所述第一目标状态以及控制所述上层变色层的处于对应的所述第二目标状态,包括:
控制所述上层变色层的输入电压为低电平,控制所述下层变色层的输入电压为高电平,
在所述显示模式为所述反向显示模式的情况下,控制所述上层变色层处于所述第一目标状态以及控制所述上层变色层的处于对应的所述第二目标状态,包括:
控制所述上层变色层的输入电压为高电平,控制所述下层变色层的输入电压为低电平。
5.根据权利要求1所述的控制方法,其特征在于,所述控制方法还包括:
在所述显示模式为反向显示模式的情况下,控制所述透明显示层进行镜像显示。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的控制方法,其特征在于,确定所述显示屏的显示模式,包括:
在所述显示屏的应用场景为AR应用场景的情况下,确定所述显示屏的显示模式为所述透明显示模式。
7.一种显示屏的控制装置,其特征在于,显示屏包括依次层叠设置的背板、下层变色层、透明显示层、上层变色层和面板,所述控制装置包括:
第一确定单元,用于确定所述显示屏的显示模式,所述显示模式包括透明显示模式、正向显示模式和反向显示模式;
第二确定单元,用于根据所述显示模式确定所述上层变色层的第一目标状态和所述下层变色层的第二目标状态;
第一控制单元,用于控制所述上层变色层处于所述第一目标状态以及控制所述上层变色层的处于对应的所述第二目标状态,使得所述显示屏调至所述显示模式。
8.一种存储介质,其特征在于,所述存储介质包括存储的程序,其中,所述程序执行权利要求1至6中任意一项所述的控制方法。
9.一种处理器,其特征在于,所述处理器用于运行程序,其中,所述程序运行时执行权利要求1至6中任意一项所述的控制方法。
10.一种电子设备,其特征在于,包括:一个或多个处理器,存储器,显示装置以及一个或多个程序,其中,所述一个或多个程序被存储在所述存储器中,并且被配置为由所述一个或多个处理器执行,所述一个或多个程序包括用于执行权利要求1至6中任意一项所述的控制方法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于硅谷数模(苏州)半导体有限公司;硅谷数模国际有限公司,未经硅谷数模(苏州)半导体有限公司;硅谷数模国际有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010297296.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。