[发明专利]一种少像元光学成像系统有效
申请号: | 202010300561.9 | 申请日: | 2020-04-16 |
公开(公告)号: | CN111338078B | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 苏云;焦建超;葛婧菁;俞越;李瀛搏;韩潇;王超;吕红 | 申请(专利权)人: | 北京空间机电研究所 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G02B3/00;G01J1/04 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 高志瑞 |
地址: | 100076 北京市丰*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 少像元 光学 成像 系统 | ||
本发明公开了一种少像元光学成像系统,包括:第一微小透镜阵列、第二微小透镜阵列、第三微小透镜阵列和像差校准透镜组;其中,第一视场的光线、第二视场的光线、第三视场的光线、第四视场的光线和第五视场的光线分别依次经过第一微小透镜阵列、第二微小透镜阵列、第三微小透镜阵列和像差校准透镜组后得到第一像差校正光线、第二像差校正光线、第三像差校正光线、第四像差校正光线和第五像差校正光线,第一像差校正光线、第二像差校正光线、第三像差校正光线、第四像差校正光线和第五像差校正光线形成二次矩形像面。本发明将长线形的一次像面的光线汇聚形成矩形的二次像面,只需常用的面阵探测器即可完成光电转换,使得大视场成像系统可以实现。
技术领域
本发明属于光学成像系统技术领域,尤其涉及一种少像元光学成像系统。
背景技术
随着应用领域的不断丰富,目前对大视场光学系统的需求不断增加,这不仅提高了光学系统本身的设计难度,更是提高了对大面阵或是长线阵的探测器的需求,特别是采用推扫模式的成像系统则需要超长线阵的探测器。虽然可以通过开发像元数更多的探测器,或是采用探测器拼接技术来解决这个问题,但是探测器的开发和拼接通常需要多方面的专业人员共同完成。对整个系统来说,将会增加巨大的人力和物力成本。所以需通过改变光学系统设计来解决此问题,例如减小系统的焦距,在相同视场下可以减小相面尺寸,但是系统的分辨率也会下降,可能会无法满足应用。
发明内容
本发明解决的技术问题是:克服现有技术的不足,提供了一种少像元光学成像系统,在原本的一次像面后加入二级像面重排光学系统,将长线形的一次像面的光线再次汇聚形成矩形的二次像面,此时只需常用的面阵探测器即可完成光电转换,使得大视场成像系统可以实现。
本发明目的通过以下技术方案予以实现:一种少像元光学成像系统,包括:第一微小透镜阵列、第二微小透镜阵列、第三微小透镜阵列和像差校准透镜组;其中,入射光线经过一次像面后分为第一视场的光线、第二视场的光线、第三视场的光线、第四视场的光线和第五视场的光线;第一视场的光线、第二视场的光线、第三视场的光线、第四视场的光线和第五视场的光线分别依次经过第一微小透镜阵列、第二微小透镜阵列、第三微小透镜阵列和像差校准透镜组后得到第一像差校正光线、第二像差校正光线、第三像差校正光线、第四像差校正光线和第五像差校正光线,第一像差校正光线、第二像差校正光线、第三像差校正光线、第四像差校正光线和第五像差校正光线形成二次矩形像面;其中,一次像面为长线阵型。
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