[发明专利]显示设备在审
申请号: | 202010301344.1 | 申请日: | 2020-04-16 |
公开(公告)号: | CN111834412A | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 李东范;金喆镐;朴允桓;裴寅浚;徐右吏;全珍 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 史迎雪;康泉 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 设备 | ||
1.一种显示设备,包括:
基板;
有源层,在所述基板上,所述有源层包括第一有源图案,所述第一有源图案包括源区、漏区以及在所述源区和所述漏区之间的有源区;
第一绝缘层,在所述有源层上;
第一导电层,在所述第一绝缘层上,并且包括栅电极;
第二绝缘层,在所述第一导电层上;
第二导电层,在所述第二绝缘层上;
第三绝缘层,在所述第二导电层上;和
第三导电层,在所述第三绝缘层上,并且包括通过穿过所述第一绝缘层和所述第二绝缘层的接触孔连接到所述第一有源图案的所述源区的源电极以及通过穿过所述第一绝缘层和所述第二绝缘层的接触孔连接到所述第一有源图案的所述漏区的漏电极,
其中,所述第一有源图案、所述栅电极、所述源电极和所述漏电极构成薄膜晶体管,
所述显示设备进一步包括在平面图中围绕所述薄膜晶体管的至少一个遮光图案,
其中,所述遮光图案包括侧面遮光图案,使得所述第三导电层的构成材料在厚度方向上至少穿过所述第三绝缘层。
2.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述侧面遮光图案被形成,使得所述第三导电层的所述构成材料在厚度方向上穿过所述第三绝缘层。
3.根据权利要求2所述的显示设备,其中,所述侧面遮光图案在厚度方向上进一步穿过所述第二绝缘层。
4.根据权利要求3所述的显示设备,其中,所述侧面遮光图案在厚度方向上进一步穿过所述第一绝缘层的一部分,以在所述第一绝缘层内终止。
5.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述侧面遮光图案使用半色调或狭缝掩模形成。
6.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述薄膜晶体管被配置为电连接到驱动晶体管。
7.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述遮光图案被提供为多个遮光图案,所述第二导电层包括第一数据图案,并且所述多个遮光图案包括第一遮光图案使得所述第一数据图案的构成材料穿过所述第三绝缘层。
8.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述遮光图案进一步包括:
下遮光图案,在所述基板和所述有源层之间,
其中,所述下遮光图案的平面尺寸大于所述有源层的平面尺寸。
9.根据权利要求8所述的显示设备,其中,所述有源层和所述下遮光图案使用相同的掩模形成。
10.根据权利要求8所述的显示设备,其中,所述下遮光图案完全覆盖所述有源层。
11.根据权利要求8所述的显示设备,其中,所述下遮光图案的平面形状与所述有源层的平面形状相同。
12.根据权利要求8所述的显示设备,其中,所述下遮光图案包括金属材料。
13.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述基板包括显示区域和在所述显示区域周围的非显示区域,在所述显示区域中放置有包括所述薄膜晶体管的多个像素,
所述显示设备进一步包括:
在所述基板下方的下盖板以及在所述平面图中被所述下盖板包围并且在所述基板的所述显示区域下方的光学传感器。
14.根据权利要求13所述的显示设备,其中,所述显示区域包括在其中放置有所述光学传感器的光学传感器布置区域以及在其中未放置所述光学传感器的光学传感器非布置区域,并且
其中,所述侧面遮光图案在所述光学传感器布置区域中,并且不在所述光学传感器非布置区域中。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的