[发明专利]研磨液及其制备方法

权利要求书

1.一种研磨液，其特征在于，该研磨液含有磨料、悬浮剂、高分子缓冲剂、及溶剂。

2.根据权利要求1所述的研磨液，其特征在于，所述研磨液含有质量百分比含量为0.1～10％的磨料、质量百分比含量为1～5％的悬浮剂、质量百分比含量为0.01～1％的高分子缓冲剂、及质量百分比含量为50～95％的溶剂。

3.根据权利要求1所述的研磨液，其特征在于，所述磨料为金刚石、碳化硅、氮化硼、及碳化硼中的至少一种；且/或

所述磨料的粒径为10～60μm。

4.根据权利要求1至3任一项所述的研磨液，其特征在于，所述高分子缓冲剂为甲氧基聚乙烯乙二醇胺、甲氧基聚乙二醇胺、聚乙二醇、聚丙二醇、聚丙烯酸及其盐、聚丙烯酸酯、聚乙烯亚胺、聚乙烯醇、黄原胶、及纤维素中的至少一种；且/或

所述溶剂为乙醇、乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、一缩二乙二醇、一缩二丙二醇、及一缩二丁二醇中的至少一种；且/或

所述悬浮剂为椰油酰胺丙基氧化胺、聚丙烯酰胺、双(2-羟乙氧基)油烯基胺、异硬脂酰胺、牛油烷基双羟乙基氧化胺、聚氨酯、膨润土、阿拉伯胶、聚乙烯吡咯维酮、及海藻酸酯钠中的至少一种。

5.根据权利要求1至3任一项所述的研磨液，其特征在于，所述研磨液还含有质量百分比含量为0.01～1％的pH调节剂，所述pH调节剂为氢氧化钾，氢氧化钠，乙二胺，二乙醇胺，三乙醇胺，二丙胺，三丙胺，正丁胺，异丁胺，仲丁胺，叔丁胺，四甲基氢氧化铵，四乙基氢氧化铵，四丙基氢氧化铵，四丁基氢氧化铵，二乙烯三胺，三乙烯四胺中的至少一种；且/或

所述研磨液的pH值为8～10。

6.根据权利要求1至3任一项所述的研磨液，其特征在于，所述研磨液还含有质量百分比含量为0.01～1％的杀菌剂，所述杀菌剂为恶唑啉、对羟基苯甲酸酯及其盐、对氯间二苯酚、山梨酸钾、N,N’-亚甲基双玛啉、异噻唑啉酮、三氯卡班、乙内酰脲、西吡氯铵、聚维酮碘、咪唑烷基脲中的至少一种；且/或

所述研磨液还含有质量百分比含量为1～5％的润滑助剂，所述润滑助剂为丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇、2-丁醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、丙三醇、三甘醇、二乙二醇甲醚、三乙二醇乙醚、及四乙二醇中的至少一种；且/或

所述研磨液还含有质量百分比含量大于0％、不大于50％的超纯水，所述超纯水的电阻率不低于18MΩ.cm。

7.一种研磨液的制备方法，其包括以下步骤：

提供磨料、悬浮剂、高分子缓冲剂、及溶剂；

混合磨料、悬浮剂、高分子缓冲剂、及溶剂，获得所述研磨液。

8.根据权利要求7所述的研磨液的制备方法，其特征在于，混合磨料、悬浮剂、高分子缓冲剂、及溶剂的步骤包括：

混合磨料和溶剂，并进行分散处理，得到混合液；

向所述混合液中加入悬浮剂和高分子缓冲剂，再次进行分散处理，获得所述研磨液。

9.根据权利要求8所述的研磨液的制备方法，其特征在于，所述研磨液的制备方法还包括向混合液中加入杀菌剂、润滑助剂、pH调节剂、及超纯水中至少一种的步骤。

10.根据权利要求8所述的研磨液的制备方法，其特征在于，所述分散处理包括超声波分散、磁力搅拌分散、机械搅拌分散、及球磨分散中的至少一种。