[发明专利]一种多孔金属复合透明导电薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种多孔金属复合透明导电膜，其特征在于：该导电膜包括一个透明基底(1)，在透明基底(1)的一侧或两侧表面上依次制备保护性减反射金属氧化物层(2)、多孔金属导电层(3)和另一个保护性减反射金属氧化物层(2)，多孔金属导电层(3)被布置在两个保护性减反射金属氧化物层(2)之间。

2.根据权利要求1所述的多孔金属复合透明导电膜，其特征在于：所述透明基底(1)为柔性聚对苯二甲酸乙二醇酯、有机玻璃或无机玻璃。

3.根据权利要求1所述的多孔金属复合透明导电膜，其特征在于：所述保护性减反射金属氧化物层(2)的材料为五氧化二铌、二氧化钛、氧化钨、氧化铟锡、氧化锌、氧化镓锌或氧化铟锌，保护性减反射金属氧化物层(2)的厚度为30～50纳米。

4.根据权利要求1所述的多孔金属复合透明导电膜，其特征在于：所述多孔金属导电层(3)的材料为金属铜、银或金，该多孔金属导电层(3)中孔(4)的直径为5～100纳米，相邻孔的边缘之间的最小间距为50～300纳米，该多孔金属导电层(3)的厚度为5～30纳米。

5.根据权利要求1所述的多孔金属复合透明导电膜，其特征在于：该多孔金属复合透明导电膜的可见光透过率为80％～90％，表面方块电阻在3～40欧姆/□。

6.制备权利要求1所述多孔金属复合透明导电膜的方法，其特征在于：所述保护性减反射金属氧化物层(2)采用磁控溅射的方法制备，多孔金属导电层(3)采用掩模法制备，其中掩模材料为聚酰亚胺球，该聚酰亚胺球的直径为25～400纳米。

7.根据权利要求6所述的制备多孔金属复合透明导电膜的方法，其特征在于：聚酰亚胺球分散在酒精表面呈单层均匀分布，用已经溅镀有底层保护性减反射金属氧化物层(2)的基底(1)，浸入聚酰亚胺球下面，采用提拉法，使聚酰亚胺球均匀吸附在保护性减反射金属氧化物层(2)上。

8.根据权利要求6所述的制备多孔金属复合透明导电膜的方法，其特征在于：所述聚酰亚胺球采用等离子体刻蚀法加工，以得到不同直径的聚酰亚胺球和不同的相邻孔边缘间距。