[发明专利]一种二维双层保偏光纤紧密阵列的制备方法

权利要求书

1.一种二维双层保偏光纤紧密阵列的制备方法，所使用的材料包括玻璃凹槽基板、玻璃盖板、多通道V型槽和UV胶水；其特征在于，具体步骤如下：

步骤1：将玻璃凹槽基板、多通道V型槽、玻璃盖板进行超声波和激光清洗，去除表面脏污；

步骤2：用同轴式剥纤钳剥掉多根保偏光纤端部的涂覆层，并用光纤切割刀将端部已剥除涂覆层的裸光纤切割一样长且保证能看清保偏光纤两个猫眼；

步骤3：将第一组保偏光纤用多通道V型槽组装成一维阵列并调整好位置，使各根保偏光纤的猫眼水平，在保偏光纤的涂覆层上涂覆UV胶水，涂覆位置靠近裸光纤部位，临时固定保偏光纤涂覆层防止光纤活动，然后整体取下保偏光纤，所述多通道V型槽的间距与保偏光纤的直径相同；

步骤4：重复步骤3操作，完成第二组保偏光纤组装成一维阵列；将临时固定好的两组保偏光纤的裸光纤部分进行清洁，待组装；

步骤5：将清洁好的第一组保偏光纤放入玻璃凹槽基板的凹槽内并用UV胶水固定；

步骤6：将清洁好的第二组保偏光纤放到第一组保偏光纤上，在显微镜观察下调节好保偏光纤的位置后，压上玻璃盖板，防止上下两层光纤有错位现象，应再次调节保偏光纤的位置使上下两层保偏光纤，使每一列的保偏光纤一一对应；

步骤7：从玻璃凹槽基板的端面方向，在保偏光纤的端部涂覆UV胶水并进行固化，得到二维保偏光纤阵列板；

步骤8：将二维保偏光纤阵列板放入60℃～85℃烤箱烘烤90-120min；

步骤9：对二维保偏光纤阵列板进行端面研磨、抛光，最终得到二维双层保偏光纤紧密阵列。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于两组保偏光纤的数量、结构完全相同，每组保偏光纤数量与多通道V型槽的通道数量相同。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，玻璃凹槽基板的凹槽宽度与一组保偏光纤的裸光纤总宽度相同，凹槽高度比两层保偏光纤的高度低0.03mm。

4.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述的步骤3、步骤5和步骤6中，每次调整保偏光纤位置时，应保证每行或每列的保偏光纤的猫眼角度误差在±3°以内。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述的步骤3、步骤5和步骤6中，每次调整保偏光纤位置时，应保证每行或每列的保偏光纤的猫眼角度误差在±3°以内。