[发明专利]一种化学气相沉积装置与方法

权利要求书

1.一种化学气相沉积装置，包括反应腔体、阴极、阳极、电源、反应衬底、机械泵、加热装置和冷却装置；

所述阴极、所述阳极和所述反应衬底设置于所述反应腔体内；所述阴极和所述阳极用于产生等离子体，所述阴极与所述阳极相对设置，所述反应衬底设置于所述阴极和所述阳极之间；

所述电源与所述阴极、所述阳极相连接；

所述机械泵与所述反应腔体相连接；

所述加热装置用于加热所述反应腔体；

所述冷却装置用于冷却反应腔体。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述阴极和所述阳极均为内部中空的结构。

3.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述加热装置为设置于所述反应腔体外的加热丝或加热套，或设置于反应腔体内部。

4.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述冷却装置为外绕于所述反应腔体的铜管。

5.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述化学气相沉积装置还设置有用于测量反应衬底温度的红外测温仪或热电偶。

6.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述反应腔体为金属管道或非金属管道。

7.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述反应衬底为硅片、蓝宝石、镍箔、铜箔或反应腔体自身。

8.利用权利要求1所述的化学气相沉积装置进行化学气相沉积的方法，包括以下步骤：

将反应腔体抽真空和加热，通入反应气氛后施加电压以产生等离子体，再通入反应源进行化学气相沉积。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述反应源为气体反应源、固态反应源或液态反应源，所述气体反应源为甲烷、乙烷或乙烯；所述反应气氛为氢气、氩气或氧气。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述化学气相沉积的产物为石墨稀、硫化钼、硫化钨或磷。