[发明专利]三维体声波谐振器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202010314203.3 申请日: 2020-04-20
公开(公告)号: CN111446939B 公开(公告)日: 2023-09-05
发明(设计)人: 吴明;唐兆云;杨清华;赖志国;王家友 申请(专利权)人: 苏州汉天下电子有限公司
主分类号: H03H3/02 分类号: H03H3/02;H03H9/205;H03H9/02
代理公司: 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙) 11345 代理人: 陈红;陈轶兰
地址: 215123 江苏省苏州市苏州工业园*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 三维 声波 谐振器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种三维(3D)体声波(BAW)谐振器,包括:

压电膜阵列,包括在衬底与盖帽层之间垂直且水平分布的多个压电膜,垂直方向上相邻压电膜之间具有多个第一空腔,水平的第一方向上相邻压电膜之间具有共用的第二空腔,水平的第二方向上相邻压电膜之间具有共用的第三空腔,多个第一空腔沿第二方向的宽度从上至下增大,任意两个相邻第一空腔仅有一侧对齐;

多个电极层,至少覆盖每个第一空腔的顶面和底面;

多个电极互连层,沿第三空腔侧面依次连接所述多个电极层;第三空腔包括沿第二方向宽度不等的多个子部分,任意两个相邻子部分深度不同;

多个焊垫,至少部分地插入第三空腔中以电连接各个电极互连层。

2.根据权利要求1的3D BAW谐振器,其中,第二空腔沿第一方向的宽度相等。

3.根据权利要求1的3D BAW谐振器,其中,焊垫沿第二方向的宽度大于等于第三空腔宽度的1.5倍。

4.根据权利要求1的3D BAW谐振器,其中,每个第一空腔与共用的第三空腔之间具有电极层、第一隔离层和电极互连层。

5.根据权利要求1的3D BAW谐振器,其中,每个第一空腔与共用的第二空腔之间具有第二隔离层和第一密闭层。

6.根据权利要求1的3D BAW谐振器,其中,衬底和/或盖帽层材料选自体Si、绝缘体上硅(SOI)、体Ge、GeOI、GaN、GaAs、SiC、InP、GaP。

7.根据权利要求6的3D BAW谐振器,其中,衬底与盖帽层材料相同。

8.根据权利要求1的3D BAW谐振器,其中,电极层和/或电极互连层材料为选自Mo、W、Ru、Al、Cu、Ti、Ta、In、Zn、Zr、Fe、Mg的金属单质、这些金属的合金、这些金属的导电氧化物或导电氮化物、以及其任意组合。

9.根据权利要求1的3D BAW谐振器,其中,压电膜的材料为ZnO、AlN、BST、BT、PZT、PBLN、PT。

10.根据权利要求1的3D BAW谐振器,其中,第一隔离层的材料为SiOx、SiOC、SiOC、SiOF、SiFC、BSG、PSG、PBSG或其任意组合。

11.根据权利要求5的3D BAW谐振器,其中,第二隔离层的材料为SiOx、SiOC、SiOC、SiOF、SiFC、BSG、PSG、PBSG或其任意组合。

12.根据权利要求11的3D BAW谐振器,其中,第一隔离层和第二隔离层材料相同。

13.根据权利要求5的3D BAW谐振器,其中,第一密闭层材料为氧化钛、氧化钽、氧化铪、氧化钨。

14.根据权利要求1的3D BAW谐振器,其中,焊垫的材料为Al、Mg、In及其组合。

15.根据权利要求1的3D BAW谐振器,其中,钝化层覆盖位于盖帽层顶部的硬掩模层并填充在多个焊垫之间。

16.根据权利要求15的3D BAW谐振器,其中,钝化层中具有再布线层以连接驱动电路,或者焊垫电连接至其上方的导电凸块。

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