[发明专利]一种混凝土金相试样的制造方法在审
申请号: | 202010316739.9 | 申请日: | 2020-04-21 |
公开(公告)号: | CN111397987A | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 林宗秀 | 申请(专利权)人: | 广州领拓仪器科技有限公司 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N1/32;B24B37/04;B24B29/02;B24B27/00 |
代理公司: | 广州一锐专利代理有限公司 44369 | 代理人: | 杨昕昕;胡玉莲 |
地址: | 510000 广东省广州市番禺区东环街番禺*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 混凝土 金相 试样 制造 方法 | ||
1.一种混凝土金相试样的制造方法,其特征在于,包括:
S10.取混凝土材料切割取样后镶嵌得到预处理试样;
S20.采用砂纸对预处理试样进行研磨;
S30.采用抛光布和第一抛光液对研磨后的试样进行预抛光,所述第一抛光液为微米多晶金刚石悬浮液;
S40.采用抛光布和第二抛光液对预抛光后的试样进行再抛光,得到混凝土金相试样,所述第二抛光液为纳米氧化铝及纳米二氧化硅的混合液。
2.根据权利要求1所述的一种混凝土金相试样的制造方法,其特征在于,所述混凝土材料通过标乐IsoMet High Speed pro高速精密切割机切割;
所述镶嵌采用冷镶嵌。
3.根据权利要求1所述的一种混凝土金相试样的制造方法,其特征在于,所述砂纸为碳化硅砂纸,所述砂纸为P320、P600、P1200其中的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的一种混凝土金相试样的制造方法,其特征在于,所述研磨的过程中,磨抛机磨盘转速调整为200~400rpm,磨抛机动力头转速调整为30~60rpm,磨抛机的磨盘和动力头同向转动,磨抛机载荷调整为10~20N,研磨0~2min或磨至平整。
5.根据权利要求1所述的一种混凝土金相试样的制造方法,其特征在于,所述研磨的过程包括:
S201.采用碳化硅砂纸P320,磨抛机磨盘转速调整为200~400rpm,磨抛机动力头转速调整为30~60rpm,磨抛机的磨盘和动力头同向转动,磨抛机载荷调整为10~20N,磨至试样表面平整;
S202.采用碳化硅砂纸P600,磨抛机磨盘转速调整为200~400rpm,磨抛机动力头转速调整为30~60rpm,磨抛机的磨盘和动力头同向转动,磨抛机载荷调整为10~20N,研磨1~2min;
S203.采用碳化硅砂纸P1200,磨抛机磨盘转速调整为200~400rpm,磨抛机动力头转速调整为30~60rpm,磨抛机的磨盘和动力头同向转动,磨抛机载荷调整为10~20N,研磨1~2min。
6.根据权利要求1所述的一种混凝土金相试样的制造方法,其特征在于,所述第一抛光液中多晶金刚石的粒径为0.5~10μm。
7.根据权利要求1所述的一种混凝土金相试样的制造方法,其特征在于,所述预抛光的过程包括:磨抛机磨盘转速调整为200~400rpm,磨抛机动力头转速调整为30~60rpm,磨抛机的磨盘和动力头同向转动;磨抛机载荷调整为15~25N,抛光1~5min后,调整磨抛机载荷为10~20N,继续抛光0.5~1.5min。
8.根据权利要求1所述的一种混凝土金相试样的制造方法,其特征在于,所述预抛光过程包括:
S301.选用粒径为8~10μm的多晶金刚石的悬浮液,控制磨抛机磨盘转速调整为200~400rpm,磨抛机动力头转速调整为30~60rpm,磨抛机的磨盘和动力头同向转动;磨抛机载荷调整为15~25N,抛光2~5min后,调整磨抛机载荷为10~20N,继续抛光0.5~1.5min;
S302. 选用粒径为2~4μm的多晶金刚石的悬浮液,控制磨抛机磨盘转速调整为200~400rpm,磨抛机动力头转速调整为30~60rpm,磨抛机的磨盘和动力头同向转动;磨抛机载荷调整为15~25N,抛光1~3min后,调整磨抛机载荷为10~20N,继续抛光0.5~1.5min;
S303.选用粒径为0.5~2μm的多晶金刚石的悬浮液,控制磨抛机磨盘转速调整为200~400rpm,磨抛机动力头转速调整为30~60rpm,磨抛机的磨盘和动力头同向转动;磨抛机载荷调整为15~25N,抛光1~2min后,调整磨抛机载荷为10~20N,继续抛光0.5~1min。
9.根据权利要求1所述的一种混凝土金相试样的制造方法,其特征在于,所述第二抛光液为40~60nm的氧化铝及10~30nm的二氧化硅的混合液。
10.根据权利要求1所述的一种混凝土金相试样的制造方法,其特征在于,所述再抛光的过程包括:采用第二抛光液,磨抛机磨盘转速调整为100~200rpm,磨抛机动力头转速调整为30~60rpm,磨抛机的磨盘和动力头异向转动;调整磨抛机载荷为10~20N,继续抛光1.5~2.5min。
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