[发明专利]基材上图案的测量系统及方法

权利要求书

1.一种基材上图案的测量方法，该方法包括：

制备具有有机图案的基材；

将激发光导向基材上的有机图案，从有机图案发射荧光；

探测从有机图案发射的荧光强度；以及

根据探测到的荧光强度，确定基材上有机图案的体积。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述有机图案为亚微米图案。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，将激发光导向有机图案包括：用紫外线(UV光束)照射基材上的有机图案。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，根据基材上的给定空间位置，确定有机图案的体积。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，根据基材上的多个空间位置，确定有机图案的体积。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，激发光导向包括：执行整片曝光。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，激发光导向包括：在基材工作面上进行扫描。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，确定有机图案的体积包括：计算基材上给定空间位置处有机图案的体积。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，确定有机图案的体积包括：计算基材上给定空间位置处有机图案的临界尺寸。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，确定有机图案的体积包括：计算基材上多个空间位置处有机图案的临界尺寸。

11.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：确认有机图案的设计目标体积，并比较设计目标体积与有机图案的计算体积。

12.根据权利要求1所述的方法，其中，在第一强度下引导激发光。

13.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：测量基材上多个位置处发射荧光的强度。

14.根据权利要求1所述的方法，其中，确定有机图案的体积包括：根据有机图案的体积，计算基材上线条的宽度。

15.根据权利要求1所述的方法，其中，所述有机图案包括线条；

其中，确定有机图案的体积包括：计算基材上各个空间位置处线条的宽度。

16.根据权利要求1所述的方法，其中，确定有机图案的体积包括：根据有机图案的体积，计算无机图案线条的宽度。

17.一种基材上图案的测量方法，该方法包括：

将第一数量的第一波长的激发光引导到具有有机图案的基材上，从有机材料图案发射荧光；

测量从有机图案发射的荧光强度；以及

根据荧光的测量强度，确定基材上有机图案的体积。

18.一种基材上图案的测量系统，所述系统包括：

一个光源，经过配置可用于使激发光导向基材工作面上的有机图案；

一个光探测器，经过配置可用于通过使激发光导向有机图案，探测从有机图案发射出的光强度；以及

一个处理器，经过配置可用于根据发射光的探测强度、有机材料特性和激发光特性，计算有机图案的体积或临界尺寸。

19.根据权利要求18所述的系统，其中，所述光探测器包括多个单元探测器。

20.根据权利要求18所述的系统，还包括一个紫外滤光片，经过定位可用于滤除指向光探测器的光中的激发光。