[发明专利]一种适用于光学散射测量的特征选择方法

权利要求书

1.一种适用于光学散射测量的特征选择方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

(1)根据半导体工艺确定待测结构的纳米结构形貌、待测关键尺寸及材料光学常数；

(2)通过解析或者数值建模构建待测结构的纳米结构正向光学特性模型；

(3)在纳米结构待测关键尺寸参数的浮动范围划分稀疏网格X_S，并计算稀疏网格中所有离散点对应的全光学特征组合f_a，继而构成稀疏光学特征库Ω_S；

(4)基于过滤式特征选择算法以一定的特征组合评价指标自所述全光学特征组合f_a中获得候选特征组合f_c；

(5)基于包裹式特征选择算法，以随机例的库匹配参数提取准确度为评价指标，从候选特征组合f_c中对库匹配方法中的评价函数所使用的特征组合进一步提炼，以得到最终的优化特征组合f*。

2.如权利要求1所述的适用于光学散射测量的特征选择方法，其特征在于：所述纳米结构的逐层拓扑形貌为光栅、薄膜或者周期性阵列。

3.如权利要求1所述的适用于光学散射测量的特征选择方法，其特征在于：所述光学特征为通过反射仪测得的反射率、通过椭偏仪测得的椭偏参数、斯托克斯向量或者通过穆勒矩阵椭偏仪测得的穆勒矩阵。

4.如权利要求1所述的适用于光学散射测量的特征选择方法，其特征在于：所述划分的稀疏网格是笛卡尔坐标系、极坐标系、柱坐标系或者球坐标系上的网格。

5.如权利要求1所述的适用于光学散射测量的特征选择方法，其特征在于：过滤式特征选择算法为序列前向选择、序列后向选择或者增L去R选择。

6.如权利要求1-5任一项所述的适用于光学散射测量的特征选择方法，其特征在于：特征组合评价指标是与相关性的评价指标、基于距离的评价指标或者基于互信息的评价指标。

7.如权利要求6所述的适用于光学散射测量的特征选择方法，其特征在于：当待测关键尺寸参数有多个时，候选特征组合f_c为对不同关键尺寸进行过滤式特征选择得到的候选特征组合的并集。

8.如权利要求1-5任一项所述的适用于光学散射测量的特征选择方法，其特征在于：包裹式特征选择算法为遗传算法、粒子群算法或者蚁群算法；所述正向光学特性模型的建模技术包含严格耦合波分析(Rigorous Coupled-Wave Analysis,RCWA)、有限元方法(FiniteElement Method,FEM)、边界元方法(Boundary Element Method,BEM)或者有限时域差分法(Finite-difference Time-Domain Method,FDTD)。

9.如权利要求1-5任一项所述的适用于光学散射测量的特征选择方法，其特征在于：随机例的库匹配参数提取准确度由参数提取值与实际值相减形成的向量的1-范数、2-范数或者无穷范数计算。

10.如权利要求1-5任一项所述的适用于光学散射测量的特征选择方法，其特征在于：随机例是从稀疏网格X_S范围内等概率选取或者按照某概率分布选取的。