[发明专利]一种用于水箱的自清洗控制方法和计算机可读存储介质

权利要求书

1.一种用于水箱的自清洗控制方法，其特征在于，所述方法包含如下步骤：

S1.控制组件接受自清洗信号，控制水箱进入自清洗模式，

S2.控制组件接收并响应所述自清洗信号后关闭出水阀并开启排水阀T1时间，以将水箱里的存储的水连同部分杂质一起排出；

S3.控制组件控制开启储液罐加液阀开启并维持T2时间，以向水箱内接入一定量的清洗液，并开启进水阀并维持T3时间，使流进的水与清洗液进行混合；

S4.静置T4时间；

S5.开启排水阀并维持开启T1时间，用以排出水箱中水和清洗液的混合液。

2.如权利要求1所述的自清洗控制方法，其特征在于，

所述步骤S5之后还包含再次开启进水阀T3时间重复步骤S4及步骤S5，，以对水箱再进行一次冲洗。

3.如权利要求1所述的自清洗控制方法，其特征在于，基于控制组件预设值排水阀开启时间T1、储液罐加液阀开启时间T2、进水阀开启时间T3及静置时间T4。

4.如权利要求3所述的自清洗控制方法，其特征在于，所述控制组件包含计时模块并基于控制组件预设值排水阀开启时间T1、储液罐加液阀开启时间T2、进水阀开启时间T3及静置时间T4。

5.如权利要求1所述的自清洗控制方法，其特征在于，所述步骤S1中包含控制组件基于预计的时间触发清洗指令或接受输入的清洗指令控制水箱进入自清洗模式。

6.如权利要求1所述的自清洗控制方法，其特征在于，所述步骤S2还包括，控制组件接收并响应所述自清洗信号后关闭出水阀并开启排水阀直到双液位传感器感应到低水位后继续保持排水阀开启T1时间，以将水箱里的存储的水连同部分杂质一起排出。

7.如权利要求1所述的自清洗控制方法，其特征在于，所述步骤S3还包括，控制组件控制开启储液罐加液阀开启，以向水箱内加入清洗液直至双液位传感器感应到低水位后关闭加液阀，开启进水阀以供水直至双液位传感器感应到高水位后关闭进水阀，以保证一定量的水进入水箱内。

8.如权利要求1所述的自清洗控制方法，其特征在于，所述步骤S5中还包括开启排水阀直到双液位传感器感应到低水位后继续保持开启排水阀T1时间，用以排出水箱中水和清洗液的混合液。

9.如权利要求1所述的自清洗控制方法，其特征在于，所述步骤S5之后还包含冲洗动作，即再次开启进水阀直至双液位传感器感应到高水位后关闭进水阀，以保证一定量的水进入水箱内静置时间T4后开启排水阀直到双液位传感器感应到低水位后继续保持开启排水阀T1时间，用以排出水箱中水和清洗液的混合液。

10.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序指令，其特征在于，所述计算机程序指令被处理器执行时实现权利要求1-9中任意一项所述的自清洗控制方法。