[发明专利]一种高纯铜旋转靶材表面处理的方法在审
| 申请号： | 202010323698.6 | 申请日： | 2020-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN111331518A | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;祝龙飞 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24C1/06 | 分类号： | B24C1/06;B24C9/00;B24C11/00 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高纯 旋转 表面 处理 方法 | ||
1.一种高纯铜旋转靶材表面处理的方法，其特征在于，所述方法包括：将高纯铜旋转靶材进行遮蔽处理，遮蔽处理完成后进行喷砂；其中，所述喷砂完成后靶材表面的粗糙度为Rz35-65μm；所述遮蔽处理为采用胶带将高纯铜旋转靶材的两端头溅射面和侧边进行遮蔽。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述遮蔽处理中的胶带包括绝缘耐热胶带。
3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述喷砂中的作业压强为3-5MPa。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述喷砂中的作业压强为3.5-4MPa。
5.如权利要求1-4任一项所述的方法，其特征在于，所述喷砂中所用砂粒包括白刚玉。
6.如权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于，所述喷砂中所用砂粒的粒度为0.3-0.5mm。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述喷砂中所用砂粒的粒度为0.35-0.4mm。
8.如权利要求1-7任一项所述的方法，其特征在于，所述喷砂中喷砂枪头距离靶材表面的距离为15-25mm。
9.如权利要求1-8任一项所述的方法，其特征在于，所述喷砂至少进行2次。
10.如权利要求1-9任一项所述的方法，其特征在于，所述方法包括：将高纯铜旋转靶材进行遮蔽处理，遮蔽处理完成后进行喷砂；
其中，所述遮蔽处理为采用胶带将靶材的两端头溅射面和侧边进行遮蔽；所述遮蔽处理中的胶带包括绝缘耐热胶带；所述喷砂中的作业压强为3-5MPa；所述喷砂中所用砂粒为白刚玉；所述喷砂中所用砂粒的粒度为0.3-0.5mm；所述喷砂中喷砂枪头距离靶材表面的距离为15-25mm；所述喷砂至少进行2次；所述喷砂完成后靶材表面的粗糙度为Rz35-65μm。
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