[发明专利]光学生物指纹识别结构及图像边缘相对照度提高方法在审

专利信息
申请号: 202010325991.6 申请日: 2020-04-23
公开(公告)号: CN111368809A 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 张昂;黄昊;姜洪霖;杨成龙;张顺星 申请(专利权)人: 上海菲戈恩微电子科技有限公司;成都费恩格尔微电子技术有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;G02B5/28
代理公司: 成都蓉创智汇知识产权代理有限公司 51276 代理人: 谭新民;赵雷
地址: 200000 上海市浦东新区中国(*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光学 生物 指纹识别 结构 图像 边缘 相对 照度 提高 方法
【权利要求书】:

1.一种光学生物指纹识别结构,包括光学镜头和位于光学镜头下方的CMOS图像传感器及图像处理和识别算法模块,该光学镜头包括第一镜片,该第一镜片包括第一镜片本体,其特征在于:所述光学生物指纹识别结构的边缘位置从内向外依次设置有第一带区、第二带区…第n带区,n为大于0的自然数。

2.根据权利要求1所述的光学生物指纹识别结构,其特征在于:所述光学生物指纹识别结构还设置有光学滤波片,该光学滤波片包括滤波片基体,第一带区、第二带区…第n带区从内向外依次设置在所述滤波片基体的边缘。

3.根据权利要求2所述的光学生物指纹识别结构,其特征在于:所述第一带区、第二带区…第n带区任一透光率滤波片基体透光率。

4.根据权利要求1所述的光学生物指纹识别结构,其特征在于:所述第一带区、第二带区…第n带区从内向外依次设置在第一镜片本体的边缘。

5.根据权利要求4所述的光学生物指纹识别结构,其特征在于:所述第一带区、第二带区…第n带区任一透光率第一镜片本体透光率。

6.根据权利要求1所述的光学生物指纹识别结构,其特征在于:所述第一带区透光率第二带区透光率…第n带区透光率。

7.根据权利要求6所述的光学生物指纹识别结构,其特征在于:所述第一带区为第一镀制膜层,第二带区为第二镀制膜层,…,第n带区为第n镀制膜层;优选所述第一镀制膜层为由若干高折射率材料层和若干低折射率材料层堆叠而成的镀制膜层,第二镀制膜层为由若干高折射率材料层和若干低折射率材料层堆叠而成的镀制膜层,…,第n镀制膜层为由若干高折射率材料层和若干低折射率材料层堆叠而成的镀制膜层;优选所述高折射率材料层为Ta2O5层或TiO2层,低折射率材料为MgF2层或SiO2层。

8.一种显示装置,该显示装置包括显示屏和光学生物指纹识别结构,其特征在于:所述显示装置为权利要求1-7任一所述的光学生物指纹识别结构。

9.一种电子设备,其特征在于:该电子设备包括权利要求8所述的显示装置。

10.一种图像边缘相对照度提高的方法,该方法在光学生物指纹识别结构的边缘从内到外渐变性增加边缘区域的通光能力。

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