[发明专利]彩色滤光基板及制作方法

权利要求书

1.一种彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：

提供一基底(11)；

在所述基底(11)上形成一绝缘层(20)；

在形成有所述绝缘层(20)的所述基底(11)上形成一不透光层(30)，所述不透光层(30)为金属层；

在形成有所述不透光层(30)的所述基底(11)上形成一光阻层(40)，对所述光阻层(40)进行第一次曝光、显影以形成第一光阻图案层(41)；

对所述不透光层(30)进行第一次蚀刻以形成第一不透光图案层(31)；

利用所述第一不透光图案层(31)对所述绝缘层(20)进行第一次蚀刻，以形成绝缘图案层(21)；

对所述第一光阻图案层(41)进行第二次曝光、显影以形成第二光阻图案层(42)；

对所述第一不透光图案层(31)进行第二次蚀刻以形成第二不透光图案层(32)；

对所述绝缘图案层(21)进行第二次蚀刻，以形成周期性的棱柱结构(22)；

对所述第二光阻图案层(42)进行剥膜处理；

对所述第二不透光图案层(32)进行第三次蚀刻，去除所述第二不透光图案层(32)。

2.如权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，去除所述第二不透光图案层(32)后的步骤还包括：

在形成有周期性的所述棱柱结构(22)的所述基底(11)上形成有机平坦层(50)；

在形成有所述有机平坦层(50)的所述基底上形成色阻层(61)和黑矩阵层(62)。

3.如权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，对所述不透光层(30)进行的三次蚀刻均为湿蚀刻，对所述绝缘层(20)进行的两次蚀刻均为干蚀刻。

4.如权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述棱柱结构(22)为三棱柱结构。

5.一种彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，

提供一基底(11)；

在所述基底(11)上形成一绝缘层(20)；

在形成有所述绝缘层(20)的所述基底(11)上形成一不透光层(30)，所述不透光层(30)为黑色绝缘层；

对所述不透光层(30)进行第一次曝光、显影以形成第一不透光图案层(31)；

对所述绝缘层(20)进行第一次蚀刻，以形成绝缘图案层(21)；

对所述第一不透光图案层(31)进行第二次曝光、显影以形成第二不透光图案层(32)；

对所述绝缘图案层(21)进行第二次蚀刻，以形成周期性的棱柱结构(22)；

去除所述第二不透光图案层(32)。

6.如权利要求5所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，去除所述第二不透光图案层(32)后的步骤还包括：

在形成有周期性的所述棱柱结构(22)的所述基底(11)上形成有机平坦层(50)；

在形成有所述有机平坦层(50)的所述基底上形成色阻层(61)和黑矩阵层(62)。

7.如权利要求5所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述棱柱结构(22)为三棱柱结构。

8.如权利要求1或5所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，对绝缘层(20)进行蚀刻时，蚀刻气体中O₂的流量为至1000至2000标准毫升/分钟。

9.如权利要求1或5所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述绝缘层(20)的材料为氮化硅，所述绝缘层(20)通过化学气相沉积形成。

10.一种彩色滤光基板，其特征在于，通过如权利要求1至9任一项所述的制作方法制作而成。