[发明专利]成像光学系统和检测装置有效
| 申请号： | 202010327819.4 | 申请日： | 2020-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN113552692B | 公开（公告）日： | 2022-09-23 |
| 发明（设计）人： | 杨晓青;王婷婷 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/00 | 分类号： | G02B13/00;G02B13/22;G03F7/20;G01N21/94 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 检测 装置 | ||
1.一种成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统由沿光轴顺次设置的物面、具有正光焦度的第一透镜组、具有正光焦度的第二透镜组和像面组成，所述第一透镜组由沿光轴顺次设置的具有正光焦度的第一透镜、具有正光焦度的第二透镜、具有负光焦度的第三透镜、具有负光焦度的第四透镜及具有正光焦度的第五透镜组成；所述第二透镜组由沿光轴顺次设置的具有正光焦度的第六透镜、具有负光焦度的第七透镜、具有正光焦度的第八透镜及具有正光焦度的第九透镜组成；所述成像光学系统的物方远心小于1°；
所述第一透镜为平凸透镜或双凸透镜，所述第二透镜和所述第三透镜均为弯月透镜，所述第七透镜为双凹透镜，所述第九透镜为双凸透镜；
所述第四透镜和所述第五透镜之间留有间隙，所述间隙的宽度大于25mm；
所述第一透镜的焦距在170mm~220mm之间，所述第二透镜的焦距在160mm~190mm之间，所述第四透镜的焦距在-25mm~-36mm之间，所述第五透镜的焦距在40mm~55mm之间，所述第六透镜的焦距在29mm~39mm之间，所述第七透镜的焦距在-15mm~-20mm之间，所述第九透镜的焦距在65mm~75mm之间。
2.根据权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述第一透镜、所述第五透镜、所述第六透镜及所述第七透镜均由折射率大于1.75的玻璃材料制成。
3.根据权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统的物像距≤300mm。
4.根据权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统的放大倍率为-0.33X，物方数值孔径≤0.05，物方半视场≤63.5mm。
5.根据权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统中的光源采用白光波段。
6.一种检测装置，用于对掩模颗粒进行检测，包括如权利要求1-5任一项所述的成像光学系统。
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