[发明专利]像素单元及液晶显示装置在审

专利信息
申请号: 202010330456.X 申请日: 2020-04-24
公开(公告)号: CN111443533A 公开(公告)日: 2020-07-24
发明(设计)人: 刘通秀;姚晓慧;金一坤 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 李新干
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 像素 单元 液晶 显示装置
【说明书】:

发明提供一种像素单元及液晶显示装置,像素单元包括四个子像素单元,每一子像素单元包括像素电极,像素电极包括多个间隔分布的条状部,且相邻两个条状部之间定义出狭缝,条状部及与其相邻的狭缝定义为电极部,电极部的宽度为条状部和所述狭缝的宽度之和,其中,每一电极部的宽度和/或每一所述条状部的宽度和/或每一所述狭缝的宽度不相同,使得像素电极在不同位置处的穿透率‑电压曲线存在差异,能够改善四畴像素电极的视角差问题,进而提升液晶显示装置的显示品质。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种像素单元及液晶显示装置。

背景技术

由于8K液晶显示器的像素尺寸较小,为提升像素的穿透率,目前通常采用4畴像素电极设计,然而4畴像素电极设计由于各个位置处的条状部的宽度和各个位置处的狭缝的宽度均相同,导致其存在大视角偏差的问题,从而严重影响8K液晶显示器的画面品质,成为制约8K液晶显示器进一步发展的关键因素之一。

综上所述,需要提供一种新的像素单元及液晶显示装置,来解决上述技术问题。

发明内容

本发明提供的像素单元及液晶显示装置,解决了现有的像素单元的像素电极在各个位置处的条状部的宽度和各个位置处的狭缝的宽度均相同,存在大视角偏差的技术问题。

为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:

本发明实施例提供一种像素单元,包括四个子像素单元,每一所述子像素单元包括像素电极,所述像素电极包括多个间隔分布的条状部,且相邻两个所述条状部之间定义出狭缝,所述条状部及与其相邻的所述狭缝定义为电极部,所述电极部的宽度为所述条状部和所述狭缝的宽度之和,其中,每一所述电极部的宽度和/或每一所述条状部的宽度和/或每一所述狭缝的宽度不相同。

根据本发明实施例提供的像素单元,每一所述电极部的宽度不相同,每一所述条状部的宽度相同,每一所述狭缝的宽度不相同。

根据本发明实施例提供的像素单元,每一所述电极部的宽度不相同,每一所述狭缝的宽度相同,每一所述条状部的宽度不相同。

根据本发明实施例提供的像素单元,每一所述电极部的宽度不相同,每一所述条状部的宽度不相同,每一所述狭缝的宽度不相同。

根据本发明实施例提供的像素单元,每一所述电极部的宽度相同,每一所述条状部的宽度不相同,每一所述狭缝的宽度不相同。

根据本发明实施例提供的像素单元,每一所述电极部的宽度介于5μm至6μm之间。

根据本发明实施例提供的像素单元,每一所述条状部的宽度介于2μm至4μm之间。

根据本发明实施例提供的像素单元,每一所述狭缝的宽度介于2μm至3μm之间。

根据本发明实施例提供的像素单元,所述像素单元包括主干电极,所述主干电极包括交叉设置的第一主干电极和第二主干电极,所述第一主干电极水平设置,所述第二主干电极垂直设置,所述条状部沿所述第二主干电极往四周延伸至所述像素电极的边缘处,其中,所述狭缝与所述第一主干电极之间形成的夹角为35°、40°以及45°中的任意一种。

本发明实施例提供一种液晶显示装置,包括上述像素单元。

本发明的有益效果为:本发明提供的像素单元及液晶显示装置,像素单元包括四个子像素单元,每一所述子像素单元包括像素电极像素电极由电极部组成,其中,电极部的宽度为条状部和狭缝的宽度之和,通过将像素电极在不同位置处的每一电极部的宽度和/或每一条状部的宽度和/或每一狭缝的宽度不相同,使得像素电极在不同位置处的穿透率-电压曲线存在差异,能够改善四畴像素电极的视角差问题,进而提升液晶显示装置的显示品质。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010330456.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top